成都维克光谱仪器技术发展有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:四川
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  • 详细介绍:


    仪器简介:

    国产PDC系列等离子清洗(处理)机是一种表面处理设备, 用气体作为处理介质,它是利用能量转换技术以电能将气体转换为化学反应性和活性很高的气体等离子体,等离子体对固体样品表面进行相互作用,引起分子结构改变,从而对样品表面的有机污染物进行超清洗和使样品表面改性,以获得希望的表面特性。用气体作为处理介质有效地避免了对环境和样品带来的二次污染。等离子清洗器外接一台真空泵,工作时气体等离子体轻柔冲刷样品的表面,短时间就可以使有机污染物被彻底地清洗掉,同时污染物被真空泵抽走,其清洗能力达到分子级。等离子清洗器可对样品的表面改性,加强样品的粘附性、相容性和浸润性,也可对样品消毒和杀菌。

    国产PDC系列等离子清洗机是针对国外等离子清洗器价格贵,难以推广等缺点,吸取了现有国内外等离子清洗机的优点,结合中国用户的需求和使用习惯,利用现代先进的科技手段而开发生产出的新型系列等离子清洗机。它除具有一般等离子清洗机的优点外,更具有性价比高,使用成本低,特别易于维护的优点,而且可选性极强,可以满足各种用户不同使用目的对设备的特殊需求。清洗舱的材料有耐热玻璃、不锈钢可选;不锈钢清洗舱有圆形、方形可选;清洗舱的尺寸可根据用户的实际需要制定;清洗舱中工装支架可根据用户清洗件的尺寸量身定做。

    技术参数:

    型号规格:PDC-MG

    1.整机规格:500×300×300(长××高)mm

    2.整机重量:35 Kg

    3.清洗舱规格:Φ165×L210 mm (耐热玻璃)

    4.清洗舱有效容积:4.5 L

    5.输入电源:220 V50 Hz

    6.整机输入功率:400 W

    7.射频输出:0150 W(连续可调)8.射频频率:13.56 MHz

    9.数字式定时器范围:099.99 min

    10.极限真空度:60 Pa

    11.二路浮子流量计:0.2~1.5L/min量程,方便二种气体按比例混合

    12.观察窗:观察清洗仓内辉光状态

    13.常用工作气体:空气、氩气、氮气或混合气体

    型号规格:PDC-BGS

    整机规格:600×550×1280(长×宽×高)mm

    整机重量:120 Kg

    反应舱规格:Φ240×L340 mm (耐热玻璃)

    反应舱有效容积:15 L

    输入电源:380(三相)V/50Hz

    整机输入功率:2000 W(含真空泵)

    射频功率:0~400W(连续可调)

    射频频率:13.56 MHz

    数字定时器:0~99.99 min

    极限真空度:50 Pa

    二路浮子流量计:0.2~1.5 L/min 量程,方便二种气体按比例混合

    观察窗: 观察清洗舱内辉光状态

    常用工作气体: 空气、氩气、氮气或混合气体等

    型号规格:PDC-BGM

    整机规格:600×600×1400(长×宽×高)mm

    整机重量:300 Kg

    反应舱规格:380×380×380(长×宽×高)mm(不锈钢)

    反应舱有效容积:50 L

    输入电源:380(三相)V/50Hz

    整机输入功率:2000 W(含真空泵)

    射频功率:0~400W(连续可调)

    射频频率:13.56 Hz

    数字定时器:0~99.99 min

    极限真空度: 50 Pa

    浮子流量计: 0.1~1.6 L/min 量程

    观察窗: 观察清洗舱内辉光状态

    常用工作气体: 空气、氩气、氮气或混合气体等

    型号规格:PDC-BGL

    整机规格:750×780×1660(长×宽×高)mm

    整机重量:400 Kg

    反应舱规格:600×470×470(长×宽×高)mm(不锈钢)

    反应舱有效容积:110 L

    输入电源:380(三相)V/50Hz

    整机输入功率:2500 W(含真空泵)

    射频功率:0~1000W(连续可调)

    射频频率:13.56 MHz

    数字定时器:0~99.99 min

    极限真空度: 50 Pa

    浮子流量计: 0.1~1.6 L/min 量程

    观察窗: 观察清洗舱内辉光状态

    常用工作气体: 空气、氩气、氮气或混合气体等

    可根据用户需要设计制作国产专用等离子清洗及处理设备。

    主要特点:

    整机一体化、结构紧凑、安装方便。

    常温条件下对样品进行非破坏性超清洗。

    彻底清除样品表面的有机污染物。

    气体清洗介质使样品清洗后无二次污染。

    设备操作简单方便,使用成本极低,易于维护。

    具有表面清洗、表面活化、表面刻蚀和表面沉积的功能。

    应用领域:

    LED、LCD、PCB、触电子生产领域中的超清洗。

    移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质,去除金属材料表面的氧化物。

    清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体和宝石。

    封装领域中的清洗和改性,增强其粘附性,适用于直接封装殛粘和。

    涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性使其活化,增强

    表面粘附性、浸润性、相容性,显著提高涂覆镀膜质量。