四方仪器始终专注于气体分析仪领域的技术研发与创新，针对薄膜沉积设备清洁终点检测需求，推出SiF4红外气体传感器。其基于公司自主知识产权的双光束红外（NDIR）技术，精确测量半导体应⽤中微量特种⽓体的红外光谱吸收，其零点漂移低、重复性好，确保每次清洗终点一致。测量稳定性高（准确度≤±1.0% F.S.），响应速度快（响应时间T90≤2秒），实时监测气体浓度变化；原位设计，结构紧凑，采用耐腐蚀材料，便于集成与维护；支持模拟/数字通信，灵活适配各类系统。实际测试中，其成功实现清洁终点的精准控制，助力CVD设备技术升级。