Q150V Plus为高真空镀膜应用做了优化设计，极限真空度可达
1x10-6mbar。结合潘宁规和皮拉尼规的使用，可以使易被氧化的金属形成超小尺寸的颗粒，以实现高分辨率成像。高真空腔室也可以将氮气，氧气和水完全除去，避免在溅射过程中因化学反应导致杂质和缺陷形成。较低的溅射速率还可获得高纯度和高密度的无定型碳膜。产品特点
1. 极限真空度可达1x10-6mbar
2. 新的LED状态指示灯
3. 16G内存可以存储1000个以上条件设置记录
4. 新软件允许多用户界面设置
5. 新的电容触摸屏设计
