应用领域：芯片材料研发，国防、航天应用比较广泛；物料对金属的敏感度很高，投料、反应人为干预越少越好；

反应参数

产品名衬四氟半自动化釜

温度120℃

压力3MPa

搅拌磁子搅拌

材质316L

四氟PP级四氟（适用于单晶硅类的材料研发）

应用领域芯片材料研发，国防、航天应用比较广泛；物料对金属的敏感度很高，投料、反应人为干预越少越好；