HWF80-04N型除氢炉适应于电子产品的中温热处理，主要用于相关材料在氮气或真空环境下的烧结工艺。该炉配置齐全，安装有实时计算机监控系统，特别适合在科研院所的材料工艺试验要求。使用温度：350℃（真空环境下使用；气氛环境下使用温度不得超过250℃），炉膛有效尺寸：400×400×500mm（W×H×D），不锈钢加热管内部加热，超断偶、低水压、真空度不达标等声光报警保护。触摸屏+PLC集中控制。欢迎来电咨询