HWF6630-10型罐式气相沉积炉适应于电子产品的中温热处理，主要用于相关材料在氮气、乙炔、氢气气氛下的气相反应工艺，也可用于相关材料在保护气氛下的烧结工艺。该炉配置齐全，安装有实时计算机监控系统，特别适合在科研院所的材料工艺试验要求。使用温度：750℃，最高温度：1000℃，不锈钢加热管内部加热，控温稳定度：±1℃,具有PID参数自整定功能；具有超温、断偶等声光报警保护，并具有超温报警断电保护功能;