主要用途：

清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。

清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。

清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。

清洗半导体元件、印刷线路板。

清洗生物芯片、微流控芯片。

清洗沉积凝胶的基片。

高分子材料表面修饰。

牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。

改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。

适用气体：

压缩空气、氩气、氮气、氧气、均设置有压力表；