旋转粉末磁控溅射镀膜仪产品中心

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简单介绍：

旋转粉末磁控溅射镀膜仪主要用于粉体材料、颗粒材料的包覆制备,用于改善粉体或颗粒的表面性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电性、耐腐蚀性等新功能。

详情介绍：

该设备主要用于粉体材料、颗粒材料的包覆制备,用于改善粉体或颗粒的表面性能、分散性能、稳定性能，赋予其导电性、耐腐蚀性等新功能。

粉体包覆磁控镀膜仪是通过粉体在溅射腔室内的旋转，以达到粉体表面均勺包覆的效果。

腔室可旋转、倾斜，能快速出料。粉体包覆是指将一种或多种粉体颗粒投入到包覆设备中,通过物理或化学方法形成一层覆盖在颗粒表面的物质。粉体包覆的目的可以是改变颗粒表面

的性质、增加颗粒的稳定性、控制颗粒的释放速率等。

产品名称	多功能粉体包覆机
产品型号	CY-MSH150-I-RF-Q
控制系统	显示模式	7英寸触控屏
磁控溅射	靶材尺寸	2英寸
	靶枪类型	标准磁场
	适合靶材	非磁性金属靶材
	溅射类型	直流溅射
	溅射真空	0.5Pa
	溅射速率	以铜为例：7nm/min
	膜层厚度	≦1微米
	膜均匀性	±3%
	样品粒度	zui佳尺寸范围：
	样品总量	≦500g
烘烤系统	烘烤温度	≦500℃任意可设置
	升温速率	≦50℃/S任意可设置
	控温精度	±1℃
	控温模式	可编程，程序控温
旋转升降	旋转速度	0-100RPM任意可设置
旋转升降	升降角度	0-60°任意可设置
等离子体	射频功率	150W(另有：300W,500W,600W,1000W,1500W多种规格可选购）
等离子体	功能效用	粉体包覆前，可先对粉体进行表面刻蚀，改性，增强包覆层附着力。
供气系统	气体种类	可通：氩气、氮气、氧气等多种气体
供气系统	气体控制	采用质量流量控制器对气体进行流量控制、气体计量。
真空系统	前级泵	通常为双极旋片泵，客户可根据需要选购其它类型前级泵。
	分子泵	通常为国产分子泵，客户可根据需要选购其它类型分子泵。
	真空计	复合真空计，量程为：10-5Pa～105Pa
水冷机组	zui大流量10L-16L，zui大扬程10-25M
供电电源	AC220V/50Hz
设备尺寸	18006201050
包装尺寸	19007201150
包装重量	200kg
随机配件	1、说明书1本
	2、随机配件1套
	3、配件清单1份