标题：

美格氧化亚硅半连续真空烧结炉 卧式半连续气相沉积真空炉

技术参数：

装料罐尺寸 50*50*1200，装料量0.24M3 ，工作温度1400℃，极限温度1550℃，温差控制精度3℃，真空度0.5-2.5pa，气氛类别：Ar/N2，总功率170KW，工序时长24H/炉。

工艺特点：

适用于动力电池负极材料（氧化亚硅制备、硅氧负极材料预镁化气相沉积中试）大批量生产用；温差控制精度高，高温高真空；气相沉积等工艺能力。生产效率高，全程全封闭全自动化作业，生产能耗低，性能稳定，主要元器件皆为进口大品牌，是目前业界真空气相沉积、氧化亚硅制备/硅氧负极预镁化气相沉积工艺优秀的解决方案。

关键词：

气相沉积制粉真空炉 氧化亚硅真空炉 氧化亚硅混炼真空炉 氧化亚硅气相沉积制粉 氧化亚硅提纯、气相预镁、