離子能量範圍*廣：使用超高能量和低能量氬氣氣體離子源，從100 eV到16 keV

使用同一儀器快速進行溫和的拋光/清潔

全自動離子源設置和離子磨機操作

可為熱敏感樣品座選配液氮冷卻

極高切削速度