北京晶迈中科材料技术有限公司
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  • 参考报价:8000
    型号:HfB25684
    产地:北京
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  • 详细介绍:


    科研实验专用二硼化铪粉末HfB2磁控溅射靶材

    产品介绍

          二硼化铪,灰色有金属光泽晶体。熔点3250摄氏度,导电率大,化学性质稳定。室温时几乎不与所有的化学试剂(HF除外)反应。由二氧化铪与碳化硼或氧化硼、碳粉混合加热制得。用作耐高温合金。

    产品参数

    中文名硼化铪   分子式B2Hf

    分子量200.112

    支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

    服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

    产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

    适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

    质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

    加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

          陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

           我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

           注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

           建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。