8”立式炉

设备型号：M51200-1/UM

主要用于半导体器件制程中的掺杂、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉积等工艺。

技术参数：

主要用于半导体器件制程中的掺杂、氧化、推阱、退火、合金、薄膜沉积等工艺。