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红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-E系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点。
应用:
硅、半导体复合材料的快速退火;
可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉;
可用作金属退火炉;
复合材料的耐热性评价炉;
高温膨胀/收缩测试炉;
特点:
椭球型反射面可以快速加热到高温;
仪器参数:
型号 | RHL-E25P | RHL-E210P | RHL-E45P | RHL-E48 | RHL-E410P | RHL-E416 |
温度范围 | RT to 1300 °C | RT to 1300 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C | RT to 1400 °C |
加热腔尺寸 | φ 7 mm x | φ 7 mm x | φ 10 mm x 40 mm | φ10 mm x | φ10 mm x | φ10 mm x |
应用 | 该反射炉需配备水冷系统; **的温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同; 加热区域是一个参考值; |