凯戈纳斯仪器商贸(上海)有限公司
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    红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-E系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点。

     

    应用:

    • 硅、半导体复合材料的快速退火;

    • 可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉;

    • 可用作金属退火炉;

    • 复合材料的耐热性评价炉;

    • 高温膨胀/收缩测试炉;

     

    特点:

    椭球型反射面可以快速加热到高温;

     

    仪器参数:

    型号

    RHL-E25P

    RHL-E210P

    RHL-E45P

    RHL-E48

    RHL-E410P

    RHL-E416

    温度范围

    RT to 1300 °C

    RT to 1300 °C

    RT to 1400 °C

    RT to 1400 °C

    RT to 1400 °C

    RT to 1400 °C

    加热腔尺寸

    φ 7 mm x
    40 mm

    φ 7 mm x
    80 mm

    φ 10 mm x

    40 mm

    φ10 mm x
    60 mm

    φ10 mm x
    80 mm

    φ10 mm x
    130 mm

    应用

    该反射炉需配备水冷系统;

    **的温度变化会根据样品材料和加热腔的大小不同;

    加热区域是一个参考值;