多弧离子镀膜设备
多弧离子镀膜机由镀膜室、N个电弧靶、弧电源,真空获得系统、旋转工件架、管状加热器、气路系统、水路系统、控制系统等组成。
| 多弧离子镀膜设备应用
多弧离子镀膜设备参数
舱体尺寸:1000×1200、1150×1200、1200×1300、1400×1300、1600×1300 电源类型:直流电源、中频电源、电弧电源、灯丝电源、活化电源、脉冲偏压电源 多弧靶:多弧靶5个或18个,1个或2个柱弧靶 孪生靶:中频孪生柱靶或平面靶1-4对 舱体结构:立式前开门结构(双层水套或水槽式冷却)、后置抽气系统 真空系统:滑阀泵+罗茨泵+扩散泵+维持泵(可选装:分子泵、深冷泵、深冷系统) 加热系统:常温至350度可调可控(PID控温),不锈钢加热管加热 气路系统:1-4路MFC 极限真空:6×10-4pa(空载) 抽气时间:空载大气抽至5×10-3pa小于13分钟 保压率:1h≤0.6pa 旋转方式:上旋转或下旋转+公自转变频无级可控可调,0-20转/分 控制方式:全自动、触摸屏+PLC
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