外延在现代半导体行业中是关键的一环，在其关键设备MOCVD中，我们的SiC涂层盘被广泛应用。我们的化学气相沉积的SiC涂层解决工艺有以下几大优势：

1、出色的抗热冲击阻力

2、出色的抗物理冲击阻力

3、出色的耐化学性

4、超高纯度

5、可加工成各种复杂的形状

6、在氧化环境下仍然可以使用