简介：本设备为连续式CVD炉，可用于硅/氧化亚硅负极材料的气相沉积碳包覆；使用氮气、乙炔、甲烷等混合气；适用于松散、无强酸强碱等腐蚀性成份的粉体材料；

炉内恒温时间需要1-4小时（加热区，可根据客户工艺需求而定）；产品管内**填充率约为5%—20%（根据客户材料特征与包覆工艺确定）；

特色与优势：

炉管整体310s板材焊接，所有焊缝做无损探伤，炉管整体做固溶。炉头采用填料润滑端面密封，弹性密封+气环密封+润滑脂环密封。以上密封方式既能保证动静结合的良好密封性，又能在高温下长期使用。密封结构部位独立循环水冷却，降低密封部位润滑脂蒸发。

进气管路设计在炉体出料端，气体流向为逆向物料行进方向而设计。进气管路为氮气和碳源气体混合进气口、氮气进气口。进气流速通过质量流量计控制。精确控制混合气比例。进气管路出气口延伸至炉管高温区。进气管材质为310s。进气管可不停炉独立拆卸，便于清理内部沉积物。

排气管路设计在炉体进料端，与进料螺旋平行，气体流向为逆向物料行进方向设计。*终排至炉外。排气管内设计独立清理，避免粉体的沉积造成烟道堵塞导致排气不畅。导致炉内压力不可控，排气管路底部设有粉尘收集仓。