无锡中晶材料科技有限公司
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  • 中晶材料
    参考报价:30
    型号:TWA 1.5/2.5/3.5/5/7/8/14/20/35/45/50
    产地:德国进口原材料
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  • 详细介绍:


                         中晶微米级氧化铝抛光粉(精抛)

    .【产品性能】

    本公司生产的TWA-1TWA-2TWA-3、TWA-5、TWA-9TWA-12TWA15氧化铝产品,采用独特的生产工艺,利用国内外先进的生产设备,通过严谨的生产流程制作而成。该产品具有以下优越性能:

    晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀;

    ●磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好;

    ●研磨效率高,抛光效果好,研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料,表面光洁度优于白刚

    玉的抛光效果,切削力强、出光快

     

                        产品粒度分布 微米(µm)

     



    规格型号

      平均粒度(D50值)

    粒度目数(#)

    晶型

    含量%>

    外观

    TWA1

    1.0±0.2

    8000#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA2

    2.2±0.4

    6000#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA3

    3.1±0.4

    4000#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA5

    4.7±0.5

    3000#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA9

    6.4±0.6

    2000#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA GF1

    7.0±0.6

    2200#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA12

    8.4±o.6

    1500#

    α

    99.62%

    白色粉末

    TWA15

    10.5±1.5

    800#

    α

    99.62%

    白色粉末

     

    【适用范围及建议】 

    ①人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光(机器抛光、滚动抛光)、手动抛光(研磨抛光)等。

    ②铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。

    ③金属表面抛光。

    ④抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石,大理石、花冈岩、水晶等!

                 

                        中晶微米级氧化铝抛光粉(中抛)

     

          半导体行业:单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研抛

     

    半导体领域

      

    【产品规格】

    型号   粒径D50(μm) 晶型  含量%>     标准(国标)

    TWA 20  14.5±1.0     α相   99.62      #800 

    TWA 15  10.2±0.8      α相   99.62     #1000

    TWA 12  9.20±0.6      α相    99.62     #1200

    TWA 9     6.40±0.5    α相    99.62     #2000

    TWA GF   17.00±0.5    α相      99.62    #2500

     

    【产品性能】 CA专用半导体研磨粉,韧性高,耐磨,不易造成划伤、生产时未添加化学助剂。同期和日本FUJIMI FO产品进行对比,研磨效率同期提高1.5倍,表面平坦度TTV有所提高,易于清洗。
    【适用范围及建议】  精密研磨半导体单晶硅片、化合物半导体(砷化镓晶体,铌酸锂晶体等)。

                            光学玻璃、光电晶体领域

     

    【产品规格】

     

     

    产品型号 

    晶型

    中值粒径D50μm

    标准

         国标准

    TWA30

    α

    21.5±1.5

    #600

    W28

    TWA20

         α

    14.5±1.3

    #800

    W20

    TWA15

    α

    10.2±0.8

    #1000

    W14

    TWA9

    α

    6.4±0.6

    #2000

    W10

    TWA5

    α

    4.7±0.5.5

    #3000

    W5

    TWA3

          a

    3.1±0.4

    #4000

    W3.5

     

     

    【性能】

           TWA系列氧化铝研磨粉,其高韧性、高磨削效率,耐磨性好,同期和绿碳化硅磨料对比,其研磨效率高出1.5~2倍,且研磨加工后工件表面品质较高。

    【适用范围】

           专门用于光学镜片、手机玻璃镜片、树脂镜片、手表玻璃和棱镜、光学镜头等。 

                      中晶微米级氧化铝抛光粉(粗抛)

                                   光学玻壳领域

    【产品规格

    产品型号 CODE

    中值粒径D50μm

         标准

    国标

    TWA45

    35.0±2.0

    #360

    W50

    TWA30

    20.5±1.5

    #600

    W28

    TWA20

    14.5±1.0

    #800

    W24


    【特点】

    ①  外观呈纯白色,韧性高,不易压碎,耐磨性好。
    ②  形状呈六角平板状,不容易造成划伤,悬浮性好。
    ③  研磨效率和传统研磨粉相比,速率高出2-3倍,且加工后产品表面平坦度好于传统磨料,并为后期抛光加工省去了不必要的麻烦。

    【适用范围】

           适用于显像管玻壳、光学镜片的研磨加工。特别适合大尺寸玻壳、玻屏的研磨加工。


     官网:

    联系:冯总   18762******