北京汇德信科技与您相约江苏!2025第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会
中国粉体网 粉享汇 2025/5/23 09:21:17 点击 178 次
导读2025第三代半导体SiC晶体生长技术交流会,8月21日相约江苏·苏州

随着科学技术的飞速发展,半导体材料的革新速度也进一步加快。当前,碳化硅作为第三代半导体材料的典型代表,在新能源汽车、光伏、储能等新兴领域正快速渗透,已成为全球半导体产业的前沿和制高点。同时,我国“十四五”规划已将碳化硅半导体纳入重点支持领域,碳化硅半导体将在我国5G基站建设、特高压、城际高速铁路和城市轨道交通、新能源汽车充电桩、大数据中心等新基建领域发挥重要作用。


近年来,我国在SiC材料领域取得了显著进展,但与国际先进水平相比,在晶体生长技术、晶圆加工技术等方面仍存在一定差距。SiC晶体生长过程中面临着晶体缺陷控制、生长速率提升、晶体质量稳定性等难题;晶圆加工方面,则存在加工精度不足、良品率低、加工成本较高等挑战。在当前倡导节能减排的大趋势下,快速稳定地突破碳化硅单晶尺寸和质量等关键问题,才能够更好地占据未来碳化硅市场。


在此背景下,中国粉体网将于2025年8月21日江苏·苏州举办第三代半导体SiC晶体生长及晶圆加工技术研讨会,大会将汇聚国内行业专家、学者、技术人员、企业界代表围绕晶体生长工艺、关键原材料、生长设备及应用、碳化硅晶片切、磨、抛技术等方面展开演讲交流。北京汇德信科技有限公司作为参展单位邀请您共同出席。



自1999年成立以来,北京汇德信科技有限公司始终秉承“诚信、专业、创新”的宗旨,将国际上先进的纳米科学技术设备引进到国内。我们与德国亚琛工业大学、德国明斯特大学、德国斯图加特大学、德国卡尔斯鲁尔纳米中心及德国Max-Planck研究所等知名科研院所有着紧密的合作,并系统地代理了Allresist(光刻胶)、Novocontrol(宽频介电阻抗谱仪)、 Keller(红外测温仪)等多家国际知名高新技术企业产品。产品覆盖了微纳米制造、检测、分析等相关领域。产品已经被国内众多科研院所、大学及工业用户使用,并得到用户一致好评和认可。

 

作为几十家国际知名品牌的国内独家代理,汇德信已建立起以客户为中心,为客户解决科研需求的销售团队和专业的技术支持队伍。公司不定期地组织技术人员出国培训,提升技术水平,更好地为客户提供技术解决方案。

 

基于长期的合作信任关系及业务增长态势,2017年我们与德国Raith公司成立了合资企业,将电子束光刻机业务划分出来,与厂商更紧密合作,共同努力为国内用户提供优质产品和服务。

 

2019年汇德信在常州成立分公司,获得资质专门销售光刻胶产品。

 

汇德信将一如既往地为国内用户寻找国际领先的创新型产品,服务用户,共创未来!


产品介绍


1、高分辨紫外/深紫外PHABLE光刻机(全息光刻系统)



EULITHA AG公司开发的PHABLE大面积、低成本的纳米图形化方案,采用突破性的Displacement Talbot Lithography专利技术。相比传统的电子束光刻、投影式光刻机、纳米压印等纳米结构方案中,遇到的生产效率、良率、生产成本等问题,PHABLE光刻技术提供了高精度、高均匀性、低缺陷率、高产率的解决方案。


应用领域:


照明、激光器、光通信、高端显示、太阳能、传感器、仿生等。


特点及优势:


稳定的纳米级分辨能力;

大面积全域曝光,无需拼接;

无限制DOF,厚胶、表面翘曲无影响;

双工作模式:
  全息光刻模式:周期性纳米结构;
  掩膜对准光刻模式:任意微米级结构。

简化的曝光流程,可实现一键式曝光

灵活的客户定制化方案


指标:


光源UV (near-i line)DUV (248nm)DUV (193nm)
曝光面积4、6、8英寸,全域曝光
分辨率<100nm<80nm<50nm
图形周期范围250-1100 nm165-900 nm125-800 nm
图形占空比范围30-50%
套刻对准及精度手动对准,套刻精度 ±2 μm
操作方式手动装片,自动曝光
参数设置PLC触屏Windows系统PC


2、Novocontrol宽频介电阻抗谱仪



Novocontrol GmbH是德国一家专业的电介质频率谱、阻抗谱、温度谱等电介质材料物理量测量仪器的生产厂家,创立于1980年,其与马克思•普朗克科学促进学会多聚体研究所的科学家们联合开发研制出先进的全系列宽频介电阻抗谱仪(介电谱)。

 

Novocontrol的介电谱仪可以通过与Keysight高频分析仪的结合达到很宽的频率范围(3μHz~3GHz);能灵敏地测量极低电导率和极低损耗的材料(分辨率可达10-5);具有极宽的阻抗分析范围(10mΩ~100TΩ);不但可以测量各种固体、薄膜材料,还可以测量液体,粉末等样品材料;其自主研发的全自动在线控制软件可以实时进行多达三十多种不同参数的测量与分析。

 

三种不同温度范围的温度控制系统,可以满足不同电介质材料测量时对温度范围和控温精度的不同要求,另外我们还提供温度高达1200℃~1600℃的高温炉系统,用于研究电介质材料在高温条件下的介电性能。

 

Novocontrol不但可提供完整的电介质参数测量系统,也可根据客户的需求提供相应的部件,例如阻抗分析仪、样品架、温度控制系统和分析软件等。也可以为用户测量一定数量的实验样品。

 

Novocontrol宽频介电阻抗谱仪不仅是实验室开发和研究新材料的重要测量手段,也是生产质量控制和优化生产工艺的强有力的工具。Novocontrol宽频介电阻抗谱仪广泛应用于化学、物理化学、电化学、电子、电工工程、半导体、材料科学、生物学和制药等领域,特别是聚合物、树脂、陶瓷、橡胶、玻璃、液晶、石油、悬浮体以及半导体晶片及器件等的研究。目前其用户包括多个国家的科研院所和400多家国际企业。


主要产品和参数


一、介电与阻抗分析


频率范围

3μHz~40MHz(up to 3GHz with Keysight  E4991B)

阻抗范围

10m Ohm~100TOhm

电容范围

1fF~1F

相位差精度

2*10-3

损耗精度:(tan(δ))

3*10-5

测量电压

10-6~3V

直流偏压

±40V

测量方式

自动修正、自动基准、手动基准

接口总线

GPIB/IEEE488


二、温度控制系统


温度范围为-160到400℃,可根据不同的需求选取不同的温度范围和控制精度。


QUATRO Cryosystem

-160~+400℃

NOVOCOOL

-100~+250℃

NOVOTHERM

室温~+400℃

NOVOTHERM-HT

室温~1600℃

PHECOS

-50℃ ~ 200℃



会务组

联系人:段经理

电话:13810445572

邮箱:duanwanwan@cnpowder.com




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