中国粉体网讯  5月20日，菲利华在投资者互动平台表示，公司目前具备TFT-LCD用光掩膜基板G4.5代到G10.5代生产能力。子公司合肥光微光电科技有限公司从事TFT-LCD光掩膜基板精加工，填补光掩膜版精加工领域的国内空白，有效完善国内TFT-LCD光掩膜版行业的产业链。

光掩膜版是光学、半导体等行业的核心材料，其性能直接影响下游产品质量。作为光刻工艺的关键载体，光掩膜版广泛应用于集成电路（IC）、平板显示器（FPD）、印刷电路板（PCB）、微机电系统（MEMS）等领域。

在光刻流程中，光掩膜版是实现图形转移的核心载体，犹如传统相机的“底片”——若缺少它，次微米级线条将无法复刻到晶圆等衬底上，芯片制造便成无源之水。而光掩膜基板（又称空白掩膜板）作为光刻成图前的原始材料，其制备工艺为：在洁净的石英或玻璃衬底上，通过磁控溅射形成100-200nm的铬膜（或钼硅膜与铬膜）坯料，再涂布400-1000nm的光刻胶。

光掩膜基板的材料与制造难点

作为光掩膜版的基础载体，光掩膜基板由玻璃层、膜层和胶层组成，其中玻璃基板和膜层是决定产品性能的核心要素。

1、石英玻璃的“苛刻标准”

玻璃基板主要采用石英玻璃和钠钙玻璃，二者均具备高光学透过率、低热膨胀率和优良光谱特性，适用于高精度光掩膜基板制造。其中，石英玻璃凭借纯度高、化学稳定性强、透光性优异等特点，成为IC用光掩膜等高端领域的首选材料；钠钙玻璃则更多应用于中低端场景。

光刻级石英材料对均匀性和透过率要求极高，仅光学均匀性就需控制在1.0×10-6（cm/cm）以内，这对石英锭熔制、加工等环节提出了近乎苛刻的标准。

以合成石英制成光掩膜石英玻璃基板工艺尤为复杂。以化学气相沉积法（CVD）为例，需以SiCl₄为原料，在氢氧焰中高温水解生成SiO₂微粒，经沉积熔化形成高纯石英锭，再通过切割、热加工（成型为石英板）、冷加工（切割、开方、倒角、磨抛等），最终制成光掩膜石英玻璃基板。

光掩膜石英玻璃基板的制造

除了石英玻璃，膜层形成过程中的针孔缺陷也是主要的不良来源之一，超过40%的掩膜基板不良率与针孔直接相关。针孔会导致膜层漏光，在曝光显影时造成线条钻蚀、凹陷、锯齿等缺陷，严重影响产品良率。

2、菲利华无气泡低膨胀石英玻璃成为关键技术布局之一

近日，菲利华一项名为“一种无气泡低膨胀石英玻璃的制备方法”的发明专利引发关注。低膨胀石英玻璃能够在室温区间达到近零的热膨胀系数，表现出优异的热稳定性，可广泛应用于航空航天、高精度光学、光掩膜等技术领域，是EUV光刻机、激光陀螺仪谐振腔体、天文望远镜反射镜等高端光学仪器设备部件的关键制备材料。

气泡是低膨胀石英玻璃中常见的缺陷之一，是影响其物理性质的关键因素。气泡的存在会降低低膨胀玻璃的强度和硬度，气泡串联形成的空隙还会引起玻璃的脆性增加。此外，由于气泡与低膨胀石英玻璃对光线的折射率不同，大量气泡的存在还会影响其在光学领域的使用。

该专利通过模压、冷等静压二次成型工艺制备高密度石英生坯，结合三段式升温真空烧结技术，解决了传统工艺中石英玻璃易产生气泡、机械与光学性能不足的问题。

TFT-LCD领域的技术红利

当前，TFT-LCD市场竞争激烈，高端手机用户对屏幕质量的要求持续提升。CounterpointResearch数据显示，预计到2025年，旗舰手机中高端TFT-LCD屏幕的渗透率将达30%。菲利华的技术突破将为国内手机厂商提供更优质的显示解决方案，助力其在国际市场中提升竞争力。

参考来源：

菲利华官网；投资者互动平台；湖北省投资项目在线审批监管平台；国家知识产权局

陈娅丽等.光掩膜石英玻璃基板的制造工艺概述

（中国粉体网编辑整理/九思）

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