中国粉体网讯  化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing, CMP）是一种结合化学腐蚀与机械研磨的表面处理技术，是实现材料高精度平坦化的有效途径。磨料在抛光过程中通过微切削、微擦划、滚压等方式作用于被加工材料表面，达到机械去除材料的作用。

以二氧化铈为核心的稀土抛光磨料因其硬度适中、反应活性高、选择性高而表现出具有更高的切削速度、抛光精度和表面光洁度，在半导体、光学元件、液晶显示屏等高端制造领域不可替代。全球电子产品（如智能手机、平板电脑、新能源汽车等）爆发式增长，半导体市场大规模扩张，带动了稀土抛光材料需求的激增。

现存抛光材料存在磨料粒度分布宽、分散性差，抛光液悬浮稳定性差问题，这严重制约了我国稀土抛光材料的应用。研究表明，磨料颗粒的形貌、尺寸、分散悬浮性能以及二氧化铈中铈离子含量对抛光去除率和表面粗糙度有着重要影响。因此，设计和开发新型高性能稀土抛光磨料，对其粒度、形貌进行严格控制，并对其化学活性实现有效调控、抑制磨料颗粒间的团聚来提高磨料分散悬浮稳定性，是提升抛光效率和降低表面缺陷的重要途径，也是实现稀土抛光材料高端化的重要方向。

研磨抛光技术在集成电路芯片的制作中具有重要作用，针对高端研磨抛光相关的技术、材料、设备、市场等方面的问题，中国粉体网将于2025年4月16日在河南郑州举办2025第二届高端研磨抛光材料技术大会。届时，包头稀土研究院高级工程师李晓佩将作题为《铈基稀土抛光材料设计合成及抛光性能调控》的报告。

专家简介：

李晓佩，包头稀土研究院高级工程师，主要从事铈基稀土抛光材料的设计制备、性能优化及其产业化应用研究。中国稀土学会稀土高性能制造专委会委员、中国化学会会员、内蒙古稀土学会会员、九三学社包头市委参政议政研究员。主持包头市项目1项、北方稀土项目1项，参与国家自然科学基金面上项目1项、内蒙古科技重大专项1项、北方稀土项目2项。发表期刊论文十余篇，申请国家发明专利十余项。2024年获内蒙古自治区“英才兴蒙”六层次人才称号，2023年获包头市青年创新人才荣誉，获得中国稀土学会优秀报告2次，获得包头稀土研究院女职工双文明建功立业先进个人2次，获得全国高分子学术论文报告会“优秀墙报奖”2次，获得九三学社包头市2024年度参政议政工作先进个人。

参考来源：

[1] 中国粉体网

[2] 燕禾等，化学机械抛光技术研究现状及发展趋势

（中国粉体网编辑整理/山林）

注：图片非商业用途，存在侵权告知删除！