【展商推荐】圣戈班西普磨介(邯郸)有限公司邀您出席2025高端研磨抛光材料技术大会
中国粉体网 粉享汇 2025/3/20 10:02:09 点击 1041 次
导读2025高端研磨抛光材料技术大会,2025年4月16日,郑州。

中国粉体网讯  随着社会的发展,工业的进步,轨道交通、电子电力和航空航天等领域对于功率器件的需求与日俱增。其中,晶圆、陶瓷基板等关键部件将持续爆发,而这些关键部件往往要求极精密的结构尺寸和极高的平整度,抛光作为该类部件生产过程中最为关键的环节,决定了产品整体质量的好坏。


2025高端研磨抛光材料技术大会将于2025年4月16日郑州举办。圣戈班西普磨介(邯郸)有限公司作为参展单位邀请您共同出席。



在追求极致精度与效率的工业领域,圣戈班精密抛磨将不同陶瓷原料(如金刚石,氧化铝,氧化锆,氧化铈)和基础化学品等原料转化为精密设计的磨料、研磨膏、抛光液等产品,广泛应用于半导体、蓝宝石、陶瓷、玻璃、金属等行业的表面处理和加工。


本次会议,我们重点展示精密抛磨三大产品,助您突破工艺极限。


9249氧化铝磨料


    


9249是一款阿尔法相多晶氧化铝,具有特殊的晶体微观结构,能够实现所加工材料(晶体,陶瓷,金属等多种材料)的精密磨抛加工,得到高质量表面。

可提供粒度2um,1um,0.5um等,其他粒度可协商定制。


NANO OX纳米氧化铝磨料



NANO OX是一款特殊的氧化铝磨料,具有粒度分布极窄,大颗粒控制严格,纯度高等特点,专为集成电路芯片制造过程中晶圆全局均匀平坦化而设计。

应用包括铜互连的平坦化,金属钨的去除和平坦化,氧化物的去除和平坦化等。

可提供粒度约100nm。


ClasSiC系列碳化硅衬底抛光液



ClasSiC™系列抛光液,是专为碳化硅衬底化学机械抛光而开发的高精密抛光液。

ClasSiC™系列抛光液使用高锰酸钾作为氧化剂,另外添加特殊化学物质,搭配合适的抛光垫及其他工艺参数,可获得较快的抛光效率以及较高的表面质量,另外化学残留少更容易清洗。

Si面抛光效率1-2um/hr;Si面粗糙度Ra0.1nm左右。

ClasSiC™系列抛光液根据产品要求既能用于粗抛光工序,也能用于精抛光工序。兼容多片机和单片机工艺,兼顾6寸及8寸碳化硅衬底抛光。


360年历史的沉淀,成就世界500强企业。自1665年创立于法国以来,圣戈班位列世界工业百强之一,连续10年被评为全球100最具创新企业,集团业务遍布全球80个国家。


圣戈班精密抛磨隶属于其旗下高功能解决方案事业部,公司始终致力于与客户敏捷合作,加速新兴技术的开发和应用,努力创造一个更美好、更安全、更环保的世界。


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会务组


联系人:  卢铭旗

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邮  箱:lumingqi@cnpowder.com




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