稀土抛光材料及其在化学机械抛光中的应用

磁流体/磁流变抛光---超精密柔性加工及挑战

光学原子级制造技术——超光滑抛光技术研究与应用探索

研磨抛光有需求？试试这种智能显微分析方案！

原子级无损伤加工？这里有抛光新方法！

美国主导，这种CMP耗材国产化进展如何？

揭秘！国际公开报道尺寸最大SiC非球面反射镜制造技术！

基于15年研究实践，这种技术让纳米粉体与抛光液“合作愉快”

抛光效率低、加工精度提升困难？试试这种技术！

润平电子！CMP核心材料与零部件项目！投产！

这家企业抛光材料项目正安装设备！计划5月试生产！

跨赛道布局！拟收购这家抛光设备企业！

落子郑州！这家磨料企业分公司开业！

太岳磨料获海关AEO最高认证。

华海清科进入2025年全球芯片设备制造商前30强。

就是这家CMP企业！跻身国家高新技术企业行列！

彤程新材再传消息！冲刺H股上市！

鼎龙股份筹划H股上市！

精密抛光用上机器人，能成吗？

不能团聚！纳米粉体在抛光液中必须分散！

抛光垫想要用得久，就得这么干！

思瑞恩取得一项名为“一种金刚石抛光膜的制备方法”的专利。

金刚石抛光技术

本期为您分享的是对上海大学施利毅教授的专访。

借晶圆的势，CMP抛光垫能更上一层楼吗？

CMP抛光垫产业链全景图

中国抛光材料企业2025业绩一览

中国氧化铈粉体八大供应商

构建产业链！破美日垄断！CMP抛光液国产化势不可挡！

2026国内抛光材料企业盘点

将超342亿元！CMP抛光材料市场巨大！

中国粉体网讯 材料和设备是半导体产业的基石，是推动集成电路技术创新的引擎。半导体材料处于整个半导体产业链的上游环节，是半导体产业的基石和推动集成电路技术创新的引擎，对半导体产业发展起着重要支撑作用，与下游半导体市场的发展紧密相关。受益于半导体产业长期发展趋势，全球半导体材料市场规模保持增长态势，且制

选用优质的金刚石微粉为原料，辅以多种助剂，通过充分混合、分散而成。产品分为单晶和多晶两种，针对不同材质器件和工艺要求，可以达到理想的抛光效果。主要应用于模具、硬质合金、陶瓷等材料的抛光。可供规格：粒度（μm）单晶多晶0.5√√1√√3√√6√√9√√15√—30√—50√—备注：除以上规格外，可根据

主要用于以下材料的精密、超精密抛光：※蓝宝石晶片，碳化硅晶片。※不锈钢，铝合金，铜等金属材料。※陶瓷，玻璃等。适用工序颜色说明粗抛白色聚氨酯材质精抛黑色阻尼布材质

采用精选的金刚石微粉为磨料，具有良好的切削力和加工表面效果，加工成本相对较低。产品分散性好，粒度分布均匀、规格齐全、质量稳定。有水基和油基两种，广泛用于各种工件的研磨和抛光。可供规格：产品名称单晶金刚石研磨液粒度（μm）0.10.250.51369152030适用工艺抛光精磨粗磨备注：除以上规格外，

颜色：棕红色；硬度：邵A80±5；填充物：氧化铈；密度：0.48g/cm³±0.05；适用：玻璃镜片、精密光学玻璃、导电膜玻璃、COVERLENS玻璃、TFT-LCD玻璃减薄及蓝宝石基板的抛光；性能特点：常用于大平面抛光，通用性较强。

型号:HG26；粉色；  硬度：邵A88±3；  填充物：氧化锆；  密度：0.60±2；  适用于精密光学透镜、棱镜的抛光。可使被加工工件光圈更稳定，不塌边。各项性能指标与进口LP26相似。  Type:HG26;pink;  Hardness:ShoreA88±3;  Filler:zircon

型号：HG262；淡绿色；  硬度：邵A90±3；  填充物：氧化铝、氧化铈等；  密度：0.60±2；  适用于蓝宝石及硬质光学玻璃的抛光。

纳米二氧化硅抛光粉镜面抛光粒径50nm100nm厂家供货我公司二氧化硅抛光粉经纳米工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的平坦化抛光，抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，光学器件、蓝宝石片等的抛光加工，金属镜面抛光。抛光特点

无锡吉致电子25年研发生产——蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/SapphireSlurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石

氧化铝抛光布/抛光垫可**替代：POLYPAS、Supreme(Politex)、UNI-NAP精抛皮、PRIMAR、SUBA800\600白色抛光垫片、UNALUX终道抛光垫、IKONIC研磨垫、LP、KSP等进口CMP抛光片。产品用途：用于对LED半导体、砷化镓、氮化镓、滤光片、玻璃，蓝宝石，石