微纳(香港)科技有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:韩国
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  • 详细介绍:


    **、产品简介:

    韩国CTS公司的AIP300CMP抛光机是一款12寸工业级CMP系统,可兼容4寸,6寸,8寸,12寸样品,可用于工厂及小批量量产。

    第二、产品主要特色:

    1CMP抛光头:采用气囊加载模式,5区压力独立控制,可得到良好的工业级抛光效果;

    2、自动上下片,自动抛光,干进干出;

    3、抛光垫修整器:摆臂式设计,由13个传感器分别控制13个区域的下压力,可保证抛光垫高水平修整;

    4、抛光垫修整器:具有在线修整与离线修整两种模式;

    5,工艺数据可实时监测;

    6、可存储多个Recipe

    7带两个手臂及自动双面清洗设备

    第三、核心技术参数:

    抛光头

    兼容4寸,6寸,8,12

    抛光头摆动范围

    ±15mm

    抛光头转速

    0-200rpm

    抛光头加压方式

    气囊柔性加压背压功能(-区加压)

    抛光头压力范围

    0.14-14 psi

    抛光盘尺寸

    20英寸

    抛光盘转速

    0-200 rpm

    蠕动泵

    2

    抛光液流速

    20-500 cc/min

    抛光垫修整器分区

    13

    抛光垫修整器在线扫描速度

    10sweeps/min

    抛光垫修整器下压力

    3-20lbs

    抛光垫修整器转速

    0-150rpm

    CMP后片内非均匀性WIWNU

    1sigma,去边5mm

    < 5%

    CMP后片间非均匀性WTWNU

    1sigma,去边5mm

    < 3%

    仪器尺寸

    1000×2030×2100(W× L× H, mm)

    冷却系统

    包含

    四,应用实例:

    ?CMP工艺 Si CMP, 氧化物 CMP(BPSG, TEOS, ThOx), 金属 CMP(W, Cu), 介质膜,STI

    ?工艺开发可协助客户进行各类材料/薄膜等的CMP工艺技术开发