冠乾科技(上海)有限公司
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  • 参考报价:电议
    型号:
    产地:美国
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  • 详细介绍:


    LOAD LOCK Chamber (option)

    LOAD LOCK预真空进样室(可选)

    Chamber with front open door

    前开门蒸发腔体

    Cryopump and dry pump

    冷凝泵和干泵

    Multiple thermal evaporation sources or OLED sources

    多个热阻蒸发源或OLED低温蒸发源

    Max. 6” substrate

    6”基片

    Substrate rotation

    基片旋转

    Substrate bias (option)

    基片偏压(可选)

    Ion source for substrate cleaning (option)

    离子源清洗基片(可选)

    Substrate heating to 1000C (option)

    基片加热1000(可选)

    Crystal rate monitor and film thickness control

    晶振沉积速率及膜厚控制

    Manual or automatic system control

    系统手动或自动控制

    For deposition of metal, semiconductor and insulation materials

    可沉积金属、半导体和绝缘材料

    For deposition of multi-layer or alloy film

    可沉积多层膜及合金薄膜