北京大方科技有限责任公司
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    型号:
    产地:北京
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    固定污染源氨逃逸在线分析系统

    针对固定污染源氨逃逸在线监测的技术要求,本产品结合大方科技在脱硝氨逃逸在线监测的丰富经验,研制开发环保型氨逃逸在线监测系统,专用于固定污染源氨逃逸的实时在线监测,并将数据实时传送至DCS。设备改变传统分体方式,采用一体化设计,占用空间小,安装维护方便,测量精度高,满足环保监管要求。

    环保专用、经典技术和现代设计的结合

    一、测量原理:

    系统采用可调谐半导体激光吸收光谱(TDLAS)技术进行NH3的测量,以可调谐激光器作为光源,发射出特定波长激光束,穿过待测气体,通过分析被测气体中NH3分子吸收导致的激光光强衰减,根据朗伯比尔定律,气体浓度与其吸收光强成比例关系,从而实现高灵敏快速精确监测待测气体中NH3浓度。因为激光谱宽特别窄(小于0.0001nm),且只发出待测气体吸收的特定波长,使得测量不受测量环境中其它成分的干扰,相比其它复合光源而言,具有极高的测量精度。

    二、测量方案:

    根据固定污染源氨逃逸测量点温度不高、测量浓度低、测量精度要求高等特点,方案沿用了大方科技经典的近位抽取+多反长光程测量池技术,并进行一体化设计,设备直接安装在烟道上,空间占用小

    系统由取样分析单元和仪表组成,一体化设计,安装于烟道上,烟气经采样探头取样后直接进入设备样气室进行测量分析,无须伴热管线。采用抽取方式可以避免烟尘和烟道振动等对测量的影响。近位抽取方式则避免了伴热管线传输造成的响应时间的影响。烟气流经管路及样气室全部采用高温加热,保证烟气取样过程中无氨气吸附。分析单元采用多次反射样气室,测量光程可达20米,可大大提高检测下限。

    、产品主要特点:

    1.采用国际先进的可调谐半导体激光光谱技术,不受背景气体、粉尘等因素干扰,实现快速、准确测量;

    2.抽取气体直接进入气室,不需要经过伴热管线,烟气接触的流路全程高温伴热无冷点,避免氨气吸附和损失,保证样气真实性;

    3.内置标准气体参比模块,并且进行动态的补偿,实时锁住气体吸收谱线,不受温度、压力以及环境变化的影响,不存在漂移现象;

    4.采用多次反射长光程测量技术,光程可达20米,极大地提高测量精度和检测下限;

    5.模块化设计,开机预热后便可正常运行无需进行现场光路调试,安装调试灵活方便;

    6.改变传统分体方式,采用一体化设计,占用空间小;

    7.大方科技特有的样气室设计,**技术,包含维护窗口,可以在不影响光路的情况下,对污染的光学器件进行清洁,让维护更加快速方便。

    四、典型应用:

    电厂、水泥厂、玻璃厂、陶瓷厂、工业锅炉等企业固定污染源氨逃逸监测

    炼焦企业固定污染源氨逃逸监测

    化工厂固定污染源氨逃逸监测