应用领域广泛，如微纳器件加工，Si/GaAs 兼容工艺，研究用掩膜制造，纳米加工（例如单电子器件、量子器件制作等），高频电子器件中的混合光刻（Mix & Match），图形线宽和图形位移测量等。
技术参数：
加速电压：zui高130keV
单段加速能力达到130keV，尽量减少电子枪的长度超短电子枪长度，无微放电
电子束直径＜1.6nm
*小线宽＜7nm
双热控制，实现超稳定直写能力
