超高分辨率电子束光刻EBLUltrahigh Resolution EB Lithography 纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用，而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是**的方法之一。超高分辨率的电子束光刻

加速电压：**130keV单段加速能力达到130keV，尽量减少电子枪的长度超短电子枪长度，无微放电电子束直径＜1.6nm*小线宽＜7nm双热控制，实现超稳定直写能力