TRYMAX 等离子除胶机

型号：NEO系列

TRYMAX该公司主要提供半导体等离子清洗、去胶、活化设备。

Trymax目前拥有半自动、全自动系列设备供用户选择，目前已有上百台设备安装在世界各地，被广泛地应用于MEMS微机电系统、微流体器件、SOI基片制造、先进封装、化合物半导体器件、功率器件和光电显示等领域。

一、设备工作原理

等离子体是物质的一种存在状态，该状态中存在下列物质：处于高速运动状态的电子；处于激活状态的中性原子、分子、原子团（自由基）；离子化的原子、分子；未反应的分子、原子等，但物质在总体上仍保持电中性状态。

Trymax NEO Series就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，通过射频/微波电源在一定的真空条件下起辉产生高能量的无序的等离子体，通过等离子体轰击被清洗产品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

二、TrymaxNEOSeries应用

前道：LightEtching；Descumstrip；PRAshing；离子注入后，光刻后，镀膜前等工艺过程； 后道/先进封装/3DIC：DescumBumping；MEMS；PlasmaTreatment；WaferCleaning等。

NEO 2000产品系列是先进的等离子灰化/

来自Trymax Semiconductor Equipment的蚀刻系统

采用**的光刻胶去除技术

**的性能，**竞争力的价格。该

NEO 2000专为应用而设计

直径100mm至200mm的基板。

它配备了超快的传输平台

灵活且可配置，可处理不同尺寸

基板同时没有硬件变化。

NEO 2000系列采用紧凑的模块化设计

可以提供高吞吐量以实现*低成本

所有权。