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品牌: | |
产地: | 中国 |
关注度: | 2053 |
型号: | CM-8320 |
误差率:无
分辨率:无
重现性:无
仪器原理:其他
分散方式:无
测量时间:无
测量范围:无
全自动双站化学吸附仪CM8320
ChemiMaster 8320(CM8320)系列仪器基于动态技术可进行TPD(程序升温脱附)、TPR(程序升温还原),TPO(程序升温氧化)、脉冲化学吸附测金属分散度、蒸汽吸附、BET单点比表面积的物理吸附分析、多组分竞争性吸附,用于测定催化剂材料的酸碱量、酸碱强度、贵金属分散度、氧化还原性能、多组分竞争性吸附等重要指标。
仪器主要技术参数及优势
●双站设计,每个工作站独立运行,每个工作站管路并联结构设计
●MFC数量:4
●TCD数量:2个
●反应炉工作温度范围:室温~1200℃,可选配低温装置
●反应炉温度测控方式:采用“床温”和“炉温”双点测控方式
●样品温度测控方式:独立的温度传感测量与控制
●检测器类型:线性度良好的莱钨合金高灵敏热导检测器TCD
●仪器内部整体保温:**可达300℃
● 气体管路数:8路气体,自由切换
● 气体流速范围:5~100 SCCM
● 软件显示:程序升温实时显示,阀门状态实时显示
●质谱取气端口:位于样品管出气口位置,避免气流干扰
● 安全提醒:具有系统危险状态报警功能
●多组分竞争性气体吸附,可以进入4路气体
● 蒸汽发生器: 可以选配蒸汽发生器,可以进行各种蒸汽化学吸附
● LOOP环:可以选配3种体积以上的LOOP环,*小体积150微升
● 管路材质和管径:配置1/8 英寸的SS 316不锈钢管路和自动六通阀
● 管路保温:仪器内部所有管线和控制阀门均加热保温设计
●长宽高:110CM*63CM*83CM
●功率:1500瓦
●重量:150kg
仪器主机
仪器主机图解
仪器选型表
竞争性吸附
通过TPD或脉冲滴定等过程,可以测试样品对于特定气体吸附量。但在实际应用中,样品所接触到的气氛通常更为复杂,不同气体同时与样品接触时,吸附能力并非简单的加和关系,而有可能表现出不同组分的竞争关系(X组分的存在有可能抑制样品对于Y组分的吸附)或协调关系(X组分的存在有可能促进样品对于Y组分的吸附)。因此对于实际应用场景,有必要针对更为复杂的气体配比条件,测试样品对于多组分气体的实际吸附能力。
TPD:程序升温脱附
样品的表面活性位(例如酸中心)吸附探针分子(例如NH3)后,在载气吹扫下进行程序升温,记录样品温度与载气浓度的变化,即为TPD测试谱图。谱图中探针分子的脱附峰的温度对应活性中心的强度,谱图中探针分子的脱附峰的面积对应活性中心的数量。
TPR/TPO:程序升温还原/程序升温氧化
TPR用于表征金属催化剂的还原性。用一定比例的H2/Ar混合气体作为载气流过样品床层并按照一定速率程序升温。记录样品温度与载气浓度的变化,即为TPR测试谱图。谱图中还原峰的温度对应金属中心的还原性能,谱图中还原峰的面积对应金属中心还原过程的耗氢量。
TPO与TPR类似,用氧化性气体代替还原性气体,用于测试金属中心的氧化性能。
脉冲滴定
以脉冲方式向样品表面定量注入特定的气体,记录载气浓度的变化,未被吸附的气体将流过样品床层并被检测器记录。记录载气浓度的变化得到脉冲滴定谱图,其中记录到的峰对应于未被吸附的气体的量,脉冲的次数对应于总脉冲量,两者差减就是样品的吸附量。脉冲滴定用于表征活性金属面积,分散度,平均晶粒尺寸等参数。
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