鬃晶科技纯 3C 相(β 相)碳化硅纳米粉,3C 相含量>99%,以超高纯相、纳米尺度、低氧高纯特性,实现结构与性能双重突破,成为第三代半导体、高端陶瓷、电子封装、热管理领域的核心材料。
鬃晶科技突破晶相控制技术,3C 相纯度稳定大于 99%,无 α-SiC 杂相干扰。立方晶系各向同性结构,颗粒呈类球形、粒径分布窄,流动性、分散性、填充性远超普通 SiC 粉体。纳米级尺度(数十至百纳米)带来超大比表面积,表面活性强,为高致密烧结与均匀复合奠定基础。
纯 3C 相纳米粉烧结活性显著优于 α-SiC,可低温烧结(较 α-SiC 低 100-300℃)、低助剂 / 无压烧结,致密度轻松达 98% 以上。鬃晶科技产品低氧含量(≤0.2%)有效抑制晶界 SiO₂玻璃相,高温强度、蠕变抗性、热稳定性大幅提升。等轴晶粒均匀生长,无择优取向与异常长大,陶瓷坯体缺陷少、组织均匀。
3C-SiC 为宽禁带半导体(~2.36eV),电学性能完全各向同性,无六方相晶向依赖性。电子迁移率高、击穿场强稳定、介电常数可控,载流子传输高效、损耗低。鬃晶科技高纯低氧特性(纯度≥99.9999%)避免杂质散射,绝缘 / 导电特性精准可调,适配功率器件、高频电路、电子封装等半导体场景。
热导率超 260W/mK 且完全各向同性,区别于 α-SiC 热导率各向异性。在电子散热、热管理材料中导热通道连续、热扩散均匀,散热效率显著提升。兼具超高热稳定性(>2700℃)、低热膨胀系数、优异抗热震性,超高温、急冷急热环境下无相变、不开裂。
莫氏硬度≈9.5,硬度与耐磨性优于 α-SiC,精密抛光效率高、表面光洁度好。纳米细晶强化与增韧效应,使烧结体强度、韧性、抗疲劳性同步提升。化学惰性极强,耐强酸强碱、抗氧化、抗腐蚀,低氧特性减少高温氧化损耗,腐蚀环境下寿命大幅延长。
半导体:SiC 单晶前驱体、功率器件、CMP 抛光液、电子封装填料
结构陶瓷:防弹陶瓷、耐磨部件、高温结构件,低温高致密、高强高韧
热管理:高导热复合材料、散热涂层,解决各向异性散热难题
新能源:锂电池负极、吸波材料、航空航天耐高温部件