LogitechLP50精密研磨抛光系统为实验室的研发提供一个极精密、多样化的研磨抛光能力。它有三个工作站，研磨盘直径35.6cm(14”)或37cm(14.6")，可同时放置三个PP5或PP6夫具进行工作。这样的配置为研发型实验室提供一个很灵活的操作仪器LogitechLP50精密研磨抛光系统是通过操纵杆和LCD控制屏来进行操作，其设计能让操作者的操作更快更方便，并能对工艺参数进行全面控制，实现高质量样品的重复生产。

根据每个工艺的要求，可以在工艺设置菜单中进行盘速的设置，设定值为0至70转每分。工艺时间也可以进行调节，可设定到zui多10小时，并且会在上边显示已用去的时间。因此没有必要一直在旁边监视仪器的运转，因为在设定时间后过程就会自动停止，

仪器拥有坚固的聚氨酷外壳，方便清洗，并有盛废液的可移除托盘，将废液导入到废料管中。这一坚固的现代化结构适用于多数严格的研磨抛光环境。另外，还有一种防次氯酸钠抛光液的机型，可理想的用于需要进行化学机械抛光的工艺过程。

外形尺寸:

长:662毫米

宽:616室米

高:635米(不包括料桶)

净重:80公斤

盘子尺寸:35厘米和37厘米

性能指标:

电压:220伏,50赫兹

电流:10安

盘速:5-70转/分钟

定时器:zui大10小时

摆臂范围:0-100%