行业痛点： 半导体、陶瓷、金属制样时，多样品同时研磨压力不均，平行度差异导致返工。传统研磨设备采用共享加压系统，多个样品之间的压力分配难以精确控制。对于需要高平行度和高重复性的材料制样，这一问题尤为突出。

方案内容： IMT Rana-5精密研磨机，采用个别荷重方式，每个样品独立加压，压力范围10至50N，确保研磨一致性。该设备研磨盘直径为Φ250mm，转速范围50至400rpm，支持正反转；样品夹持转速为50至200rpm。设备可同时放置1至6个样品。操作方面，Rana-5采用防水触控屏操作面板，可存储16组研磨条件，支持ABC三段设定。

技术参数： 研磨盘Φ250mm，50~400rpm正反转。样品夹持50~200rpm。压力10~50N独立加压。尺寸W450×D640×H520mm，重量约94kg。电源单相100V或220V。