器件的制造是通过一系列精确控制的加工工艺完成的，为了保证每步工序都能正确地进行，在每一个工艺步骤中都有许多测量和监控技术，其中光学测量由于其非接触、无破坏、无污染的特点被广泛使用。

其中，光学测量的一项重要内容是薄膜特性———例如厚度和光学性质。目前，常用的光学测量技术根据其原理可分为: 光吸收法、干涉监控法、偏振光分析法等。

今天小编为大家介绍的这款椭偏仪采用偏振光分析法（也称为椭圆偏振光谱测量技术），该方法是利用偏振光在材料表面反射后，相应偏振态的改变来测量该材料的光学性质。

椭偏仪概况

椭偏仪是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于并不与样品接触，对样品没有破坏且不需要真空，使得椭偏仪成为一种极具吸引力的测量设备。

椭偏仪应用

椭偏仪可测的材料包括：半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质。

椭偏仪涉及领域有：半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等。

椭偏法测量优点

1、能测量很薄的膜(1nm)，且精度很高，比干涉法高1~2个数量级。

2、是一种无损测量，不必特别制备样品，也不损坏样品，比其他精密方法如称重法、定量化学分析法简便。

3、可同时测量膜的厚度、折射率以及吸收率。因此可以作为分析工具使用。

4、对一些表面结构、表面过程和表面反应相当敏感，是研究表面物理的一种方法。

椭偏仪的分类及介绍

椭偏仪按照测试原理的不同，主要分为消光式和光度式两类。大体可以分为PCSA 型消光式椭偏仪、旋转偏振器件型椭偏仪、相位调制型椭偏仪、椭偏光谱仪、红外椭偏光谱仪、成像椭偏仪和广义椭偏仪。

椭偏仪厂家介绍

今天，小编为大家介绍的这家椭偏仪厂家——HORIBA科学仪器事业部，公司总部自1953年成立，是一家分析检测仪器和设备制造商，并且以其高精尖的产品成功地将市场拓展到了全球各个国家和地区。

HORIBA 研究级全自动椭偏仪UVISEL 2

技术参数：

光谱范围：190-2100 nm

8种光斑尺寸: 小35 X 85 um

探测器：3个独立探测器，分别优化紫外，可见和近红外

自动样品台尺寸：200mm X 200mm；XYZ方向自动调节; Z轴高度>35mm

样品水平度自动调整

自动量角器：变角范围35°- 90°，全自动调整，小步长0.01°

HORIBA一键式全自动快速椭偏仪 Auto SE

主要特点

1. 液晶调制技术，无机械转动部件，重复性，信噪比高

2. 技术成像技术，所有样品均可成像，对于透明样品，自动去除样品的背反射信号，使得数据分析更简单

3. 反射式微光斑，覆盖全谱段，利于非均匀样品图案化样品测试

4. 全自动集成度高，安装维护简便

5. 一键式操作软件，快速简单

6. 自动MAPPING扫描，分析样品镀膜均匀性

技术参数

1. 光谱范围：450-1000 nm

2. 多种微光斑自动选择

3. 光斑可视技术，可观测任何样品表面

4. 自动样品台尺寸：200mmX200mm；XYZ方向自动调节; Z轴高度>35mm

5. 70度角入射

6. CCD探测器

参考资料：

朱绪丹等.《椭圆偏振光谱测量技术及其在薄膜材料研究中的应用》HORIBA科学仪器事业部