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万亿半导体背后:碳化硅陶瓷,正在悄悄爆发

初末

2026.9.30  |  点击 2024次

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导读从炉管到静电吸盘,碳化硅陶瓷凭什么横扫半导体设备?

中国粉体网讯   在万亿规模的半导体产业浪潮之下,有一种看似毫不起眼的高性能陶瓷材料,正潜藏在芯片制造的幕后,迎来属于自己的爆发时代——它就是碳化硅陶瓷。


碳化硅陶瓷材料作为新型高性能陶瓷材料,是先进制造业关键基础材料之一,广泛应用于半导体装备、新能源光伏、航空航天、高端冶金装备等战略性新兴产业,属于国家大力支持发展的重点产业方向。


在先进逻辑、高端存储、功率半导体等工艺节点中,传统材料难以满足高温、强等离子腐蚀、高可靠性、长寿命的使用要求,碳化硅陶瓷凭借优异的耐高温性、耐蚀性、热稳定性与低产尘等特性,逐步成为刻蚀、沉积、离子注入、外延、退火等设备核心部件的首选材料,应用渗透率持续提升。


来源:三责新材


国家层面也为这一材料的发展保驾护航。《重点新材料首批次应用示范指导目录(2024年版)》将刻蚀装备用碳化硅电板、刻蚀装备用碳化硅环、6寸及以上高温扩散工序用烧结碳化硅舟、6寸及以上高温扩散工序用CVD碳化硅舟、6寸及以上高温扩散工序用烧结碳化硅炉管、6寸及以上高温扩散工序用CVD碳化硅炉管等半导体装备用精密陶瓷部件产品列入关键战略材料,并进行政策扶持。


碳化硅陶瓷零部件可广泛用于静电吸盘、基座、边缘环、内衬、加热器、腔体组件等关键结构件,覆盖芯片制造多道核心工序,市场空间广阔。伴随先进制程产能扩张、设备更新换代加速,以及下游对零部件使用寿命与稳定性要求提升,碳化硅陶瓷零部件需求增速显著高于行业平均水平,成为半导体设备耗材领域最具成长性的细分赛道之一。


半导体制造设备元器件:

极端工况下的硬核“担当”


目前,在半导体设备制造中,碳化硅陶瓷凭借高热导率、高机械强度、高刚度、耐磨性、高击穿电压以及高温工作能力等成为半导体制造设备元器件的关键材料。在晶圆制造过程中,碳化硅陶瓷可用于制造晶圆载具、腔体、炉管等关键部件。这些部件需要承受高温、强腐蚀性气体等极端工况,碳化硅陶瓷优异的耐高温、耐腐蚀性能使其成为理想的材料选择。


来源:沈阳星光新材


例如,在晶圆热氧化工艺中,碳化硅陶瓷制成的炉管能够在1200℃以上的高温环境中长期稳定工作,确保晶圆表面氧化膜的均匀性。在晶体生长过程中,碳化硅陶瓷制成的反应腔体能够承受高温、腐蚀性气体的工作环境,保证晶体生长的质量。此外,碳化硅陶瓷还可应用在XY平台、聚焦环、基座、抛光板、真空吸盘、晶圆夹盘、炉管、搬运臂、悬臂桨、晶舟等。


半导体器件封装:

功率器件的散热“守护神”


来源:衡鹏集团


在半导体器件封装中,碳化硅陶瓷可用于制造封装基板、热沉等重要构件。由于其出色的热传导性和低热膨胀系数,碳化硅陶瓷能够有效地将器件产生的大量热量迅速传导并散发出去,大幅提高了器件的可靠性和使用寿命。同时,碳化硅陶瓷良好的机械性能也使其成为理想的封装材料。例如,碳化硅陶瓷热沉能够以较低的热阻快速将功率器件产生的热量传导到外部散热系统,显著改善了器件的散热性能。而碳化硅陶瓷封装基板则具有良好的平面度和尺寸稳定性,确保了器件封装的可靠性。


加工设备领域:

耐磨抗造的工艺“利器”


来源:华硕精瓷


在半导体设备制造中,碳化硅陶瓷广泛应用于制造各种加工工具和部件。其优异的机械性能、耐高温和耐腐蚀性使其成为理想的工艺设备材料。例如,碳化硅陶瓷可制成离子注入机、干刻机等设备中的离子注入源、电极、屏蔽罩等关键部件。这些部件在高能离子轰击、腐蚀性气体环境中长期工作,碳化硅陶瓷出色的抗磨损性和化学稳定性保证了设备的可靠运行。此外,碳化硅陶瓷还可用于制造半导体晶圆抛光盘、切割刀片等加工工具,为晶圆制造提供了坚固耐用的加工解决方案。


放眼全球市场,半导体国产化的滚滚浪潮,不断释放碳化硅陶瓷零部件的市场需求。根据QY Research调研数据,2024年全球半导体用碳化硅零部件市场规模约11.71亿美元,机构预测到2030年,市场规模将增长至15.78亿美元。


长远来看,先进制程技术持续迭代,大尺寸晶圆产能不断扩容,再叠加国内在碳化硅陶瓷材料制备、精密加工、表面处理技术上接连取得突破,半导体领域碳化硅陶瓷零部件依旧拥有可观的增长空间,行业未来值得期待。


参考来源:

和娇娇.浅析碳化硅陶瓷在半导体行业的应用与研究进展

锦州神工半导体股份有限公司2026年度向特定对象发行A股股票募集说明书


(中国粉体网编辑整理/初末)

注:图片非商业用途,存在侵权告知删除!

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