中国粉体网讯  目前化学机械抛光(CMP)是世界上公认的可以实现集成电路制造中全局平坦化的技术，其精度可以达到纳米级别。

化学机械抛光系统主要由抛光液、抛光垫和抛光头三部分组成，想要得到高精度的表面质量，除了工艺和设备参数的设定外，抛光液是关键因素之一。

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为保证超光滑的抛光效果，抛光液所用磨料往往会选用纳米粉体，而纳米颗粒之间存在着特殊的表面作用力，定义为纳米作用能（Fn），表示纳米颗粒表面的配位原子不足而具有很高的活性，这是导致纳米粉体易团聚的内因。同时，纳米颗粒之间存在的吸附作用，如纳米颗粒间的氢键、颗粒间的静电吸附、量子隧道效应、电荷转移和表面原子吸附，大比表面积带来的吸附作用，让纳米粉体极易产生团聚。

粉体团聚的产生严重制约了粉末颗粒的性能，尤其是悬浮性、稳定性和抛光能力。

纳米库尔特粒度仪基于经典库尔特原理，采用电感应区技术，可对纳米级颗粒进行单颗粒级精确测量，实现粒径、浓度及表面电位的同步表征，具有分辨率高、统计样本量大、重现性好及抗干扰能力强等突出优势。

在化学机械抛光（CMP）浆料、精密磨料及纳米抛光粉的表征中，纳米库尔特粒度仪能够准确获取颗粒真实粒径分布、聚集状态及分散稳定性，为高端抛光材料的配方优化、工艺调控和质量控制提供了可靠的数据支撑。作为纳米颗粒表征的新兴技术手段，该仪器为高性能抛光材料的研发与产业化应用提供了一种全新的高精工具，具有广阔的应用前景。

2026年10月15日，中国粉体网将在江苏•苏州举办“2026半导体与光学材料超精密加工技术及应用大会”。届时，我们邀请到瑞芯智造（深圳）科技有限公司技术总监麻小挺出席本次大会并作题为《纳米库尔特粒度仪及其在CMP材料检测中的应用》的报告。报告将系统阐述该仪器的测量原理、结构组成、技术优势及关键参数，重点分析了其在抛光材料领域的应用。

专家简介

麻小挺，瑞芯智造（深圳）科技有限公司技术总监，香港大学博士，纳米材料领域专家，拥有十年以上材料基础研究、产业化及管理经验，在Advanced Materials、Advanced Functional Materials、Nano Energy和Small 等国际顶级期刊发表多篇 SCI 论文10余篇，并已申请及授权发明专利超过十项。 

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