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2026全国高纯碳化硅粉体制备技术及应用交流大会
2026/7/27 12:54:40 点击 463 次
导读为打通高纯碳化硅粉体上下游产业链壁垒,搭建产学研用深度协同创新交流载体,攻克行业共性技术瓶颈,推动产业降本增效、规模化高质量自主供应,中国粉体网将于2026年11月26日举办2026全国高纯碳化硅粉体制备技术及应用交流大会。

高纯碳化硅粉体作为制备碳化硅单晶衬底、高端特种陶瓷、导热材料等的关键基础原材料,其纯度、粒径、晶型等物化指标直接影响下游产品的质量与性能。当前,碳化硅在新能源汽车、光伏储能、5G通信、AI大数据、航空航天等领域快速渗透,市场应用空间持续拓展。



伴随国内新能源汽车、光伏储能、半导体产业快速扩张,超高纯碳化硅粉体市场需求持续爆发。长期以来,高端高纯碳化硅粉体制备核心技术由欧美、日本企业垄断,国内高端粉体高度依赖进口,是我国新材料领域重点攻坚的“卡脖子”短板赛道。现阶段行业普遍存在提纯难度高、痕量杂质管控难、量产稳定性差、核心制备装备国产化不足等痛点,产业链自主可控发展压力较大。


为打通高纯碳化硅粉体上下游产业链壁垒,搭建产学研用深度协同创新交流载体,攻克行业共性技术瓶颈,推动产业降本增效、规模化高质量自主供应,中国粉体网将于20261126举办2026全国高纯碳化硅粉体制备技术及应用交流大会。


会议时间:

2026 11 26


会议地点

江苏苏州·白金汉爵大酒店


主办单位:



 

会议主题:

1、国内外高纯碳化硅粉体产业格局、供需现状、国产替代机遇与现存挑战

2、5N/6N超高纯碳化硅粉体主流合成工艺对比及产业化进展

3、高纯碳化硅粉体深度提纯技术:金属杂质、氧氮杂质痕量去除工艺

4、高纯硅源、高纯碳源上游原料提纯与品质稳定管控技术

5、高纯碳化硅粉体表面改性、分散、防团聚处理技术

6、高纯碳化硅粉体粒径、晶型、形貌控制技术

7、PVT法碳化硅单晶长晶用碳化硅粉体指标要求

8、高纯碳化硅粉体低成本规模化量产、能耗优化与绿色生产技术

9、高纯碳化硅粉体在高端特种陶瓷领域的应用

10、高纯碳化硅粉体在热界面材料及导热领域的应用

11、高性能陶瓷用碳化硅粉体制备与性能调控技术

12、碳化硅粉体在精密研磨抛光领域中的应用

13、高纯碳化硅粉体在航空航天及军工领域前沿应用场景

14、高纯碳化硅粉体产业化发展的成本控制与规模化路径探讨


参会对象

· 碳化硅微粉/纳米粉、高纯源粉及先驱体生产企业;

· 反应烧结/无压烧结碳化硅陶瓷、半导体设备零部件企业;

· 连续碳化硅纤维及陶瓷基复合材料企业;

· 高温炉、球化/研磨/提纯设备及粒度/成分检测仪器厂商;

· 高校粉体合成、陶瓷烧结、先驱体转化等课题组;

· 投资机构及第三方检测平台;


特色活动:

大会征集参会企业相关技术合作、产品采购,工艺方案等需求进行现场采配活动,

相关信息将进行展板展示,提高现场沟通交流效率!

征集内容包含但不限于以下几点:

1、行业投资、融资需求

2、科研成果转化 

3、产品工艺问题解决方案

4、原料、设备、仪器采购需求


大会赞助:

(赞助详细内容请联系会务组了解)

1、协办赞助(含展位、企业致辞,LED大屏广告,视频播放,企业报告等)

2、晚宴赞助(含展位、晚宴大屏LOGO展示、晚宴致辞、主持人口播广告等)

3、其它赞助(资料袋、茶歇、椅背广告、胸牌广告赞助等)

4、展位展示(展示桌椅+展位背景墙广告)


同期活动

展览展示活动

费用:1w

1、标准展桌一套(配2把椅子)

2、企业喷绘背景墙广告1个(2米宽*2.6米高)

3、参会名额2


会议费用:

参会对象早鸟票常规票
企业代表1800元/人2800元/人
高校/科研院所1000元/人1500元/人



会务组:

联系人:段湾湾

联系方式:13810445572(微信

邮箱:duanwanwan@cnpowder.com



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