中国石化再获突破!CVD金刚石自支撑膜专利揭秘
中国粉体网 2025/4/3 11:19:54 点击 332 次
导读一种CVD金刚石自支撑膜及其制备方法。

中国粉体网讯  近日,国家知识产权局公布了中国石油化工股份有限公司(以下简称“中国石化”)一项名为“一种CVD金刚石自支撑膜及其制备方法”的专利(公开号CN 119685788 A)。这项技术不仅标志着我国在超硬材料领域的关键突破,更可能为半导体、光学、新能源等高端产业注入“钻石级”的硬核支撑。



CVD金刚石膜:为何被称为“工业钻石”?


金刚石膜凭借其硬度高、强度大、导热性好、热膨胀系数小、化学稳定性高、禁带宽度大、介电系数小等优异的理化性质,在超硬刀具、地质勘探、高功率半导体、高功率微波窗口等领域具备广泛的应用场景。


当金刚石膜厚度达到一定尺寸(>1mm),则称其为CVD金刚石自支撑膜,可扩展作为石油钻探切削元件使用,取代目前常用的聚晶金刚石(PCD)钻头切削元件。


自20世纪低压CVD技术成功制备金刚石以来,全球围绕其工业化应用的竞争从未停歇。传统金刚石膜存在厚度不均、韧性不足、热丝积碳等问题,限制了大规模应用。近年来,随着微波等离子体CVD等技术的成熟,美、日等国的企业已将其用于红外窗口、高功率激光器件等尖端领域。我国虽起步较晚,但通过热丝CVD、直流电弧等离子体喷射等技术,逐步缩小了与国际差距。


北京科技大学使用 DC Arc Plasma Jet CVD 制备的金刚石膜板宏观照片

图源:刘金龙等. CVD金刚石自支撑膜的研究进展


专利详解:如何“种”出一张金刚石膜?


中国石化此次公开的专利,聚焦于“自支撑膜”,厚度是毫米级,为多层复合结构,由金刚石相含量高的增硬层和金刚石相含量较低、石墨相含量较高的增韧层交替排列而成。


本发明所提供的CVD金刚石自支撑膜制备方法通过在热丝沉积系统中间歇性引入氧元素,利用氧对石墨相碳的定向刻蚀作用,有效减缓热丝积碳现象,实现了系统的长时间稳定沉积,同时净化CVD金刚石,细化晶粒,提高其力学性能。


该CVD金刚石膜具有良好的硬度及韧性,可作为切削元件用于石油钻探等地质勘探领域,其制备方法是在基底上交替沉积增硬层和增韧层,包括如下步骤:


1)采用第一沉积工艺在基底上沉积增硬层,所述第一沉积工艺为将第一气相流、第二气相流和第三气相流分别通入CVD金刚石沉积炉,设施参数为第一沉积工艺参数,并运行第一沉积时长;


2)采用第一过渡工艺对步骤1中的第一沉积工艺进行过渡处理,所述第一过渡工艺为停止通入第一气相流和第三气相流,调整第一沉积工艺参数为第一过渡工艺参数,并运行第一过渡时长;


3)采用第二沉积工艺在步骤2得到的增硬层上继续沉积增韧层,所述第二沉积工艺为将第一气相流、第二气相流分别通入CVD金刚石沉积炉,设置CVD金刚石沉积炉沉积参数为第二沉积工艺参数,并运行第二沉积时长;


4)采用第二过渡工艺对步骤3中的第二沉积工艺进行过渡处理,所述第二过渡工艺为停止通入第一气相流,调整第二沉积工艺参数为第二过渡工艺参数,并运行第二过渡时长;


5)重复操作步骤1至步骤4,直至CVD金刚石自支撑膜厚度达到要求



应用场景:从芯片散热到太空探索


金刚石自支撑膜的产业化,将彻底改写多个领域的技术路线:


1.半导体散热:5G/6G芯片、高功率激光器的散热需求激增,金刚石膜的热导率(约2000 W/m·K)是铜的5倍,可大幅提升设备稳定性;


2.光学窗口:用于导弹整流罩、深空探测器,耐受极端温度与辐射环境;


3.机械加工:作为超硬刀具涂层,寿命提升数十倍,助力精密制造;


4.新能源领域:氢燃料电池质子交换膜、核聚变装置内壁涂层的潜在应用。


参考来源:

1.国家知识产权局,金融界,证券之星以及网络公开信息

2.刘金龙等. CVD金刚石自支撑膜的研究进展. 表面技术


(中国粉体网编辑整理/轻言)

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