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随着我国稀土抛光粉产业的快速发展，铈基稀土抛光粉具有磨削能力强、抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，已经取代了过去使用的氧化铁磨粉。目前该产品在我国发展较快，应用范围广，且经济价值高，具有较好的发展前景。

铈基稀土抛光粉成分主要包括:La、Ce、Pr、Nd、O、F、Fe、S等化学元素,其中CeO₂是主要的有效抛光成分，其他稀土元素主要固溶于CeO₂的晶格中，从而改变CeO₂晶体的形貌、结构及抛光性能，F、S等元素也会影响抛光粉的晶形、颜色和抛光能力。

稀土抛光粉独特的晶体结构和化学性质，使抛光粉拥有优良的抛光性能。氧化铈通常呈现为一种立方萤石晶体结构，空间群为Fm3m。Ce的价电子层结构是4f15d16s2，外层电子和内部电子间能量差很小，因此，氧化铈有三价和四价两种价态形式。在外部环境的影响下，Ce³⁺和Ce⁴⁺可以相互转化，并伴随着氧空位的形成和消失，基于这种性质，氧化铈具有较强的反应活性，氧化铈磨粒能在工件表面生成易于去除的化学齿，以获得优异的抛光性能。

稀土抛光粉的制备主要有以下几种方式。

氟碳铈矿铈富集物焙烧制备稀土抛光粉

以氟碳酸镧铈精矿（Bastnasite，CeO₂/TREO>50%，TREO>70%）为原料，经球磨、焙烧、调浆、过筛（500 mesh）、干燥、分解破碎，最后包装制成产品。该工艺对原料要求不高，生产设备简单，充分利用了氟碳铈矿里的氟元素。该产品曾经大量用于CRT显示器玻壳的抛光研磨。但该产品最大的问题是精矿里的放射性元素未分离，直接应用给环境带来较大隐患。矿中的脉石如石英、重晶石也进入产品，使其应用范围受到限制。随着CRT显示器玻壳被液晶显示器取代，该种抛光粉已不生产。

碳酸稀土焙烧法制备稀土抛光粉

以碳酸镧铈镨（TREO:45%，CeO₂>58%）为原料，经干燥、球磨、氢氟酸氟化、再干燥、焙烧、分解破碎、分级，最后混料包装。该工艺采用分离产品少钕碳酸稀土为原料保障了原料的纯净度，且各工序控制严格，得到的产品品质好，多用于精密器件的抛光。

以分离后的铈化合物为原料制备高铈稀土抛光粉

用硝酸稀土、氢氧化铈或碳酸盐等为原料，经萃取分离为单一稀土镧和铈再配成混合物料液（CeO₂/TREO=70%，La₂O₃/TREO=30%），经沉淀制备出氟碳酸镧铈。其主要工艺流程为：分离后的铈化合物→溶解→沉淀→过滤→焙烧→细磨分级→产品。其中由硝酸稀土沉淀的碳酸稀土为六方晶体相。该工艺制备的稀土抛光粉通用性强，多被用作精密镜头抛光。

以氯化稀土为原料制备含氟稀土抛光粉

使用氯化稀土（LaCePrCln﹒nH₂O）为原料，加入碳酸氢钠和氟硅酸钠进行沉淀，过滤后加水洗涤，再经干燥、灼烧、加水过筛后干燥，最终形成产品进行包装。该工艺流程的设备简单，缺点是所制得的抛光粉粒度大，抛蚀量过高。

以碳酸镧铈为原料制备含氟稀土抛光粉

将碳酸镧铈作为原料，用盐酸溶解，加入碳酸氢钠、氟化钠和磷酸生成沉淀，待沉淀完全后水洗、过滤、灼烧，再加水调浆，经球磨、喷雾干燥、气流粉碎分级后，形成产品。由于磷的作用，其产品通用性好，适合球面抛光。

以氟化镧铈为原料制备高铈抛光粉

国内某公司生产高铈抛光粉，其工艺以碳酸镧铈和氟化镧铈为原料，加水调制成浆后，经球磨、干燥、粉碎和分级，最后形成产品进行包装。该制备工艺操作简单，减少了氢氟酸的加入，提高了操作过程的安全性，且产品收率高。

参考来源：

[1]中国粉体网

[2]周筱桐，稀土抛光粉再生利用技术的研究

[3]贾培杰等 稀土抛光粉制备工艺优化及性能研究

[4]胡珊珊等，稀土抛光粉产业发展现状与前景

（中国粉体网编辑整理/山林）

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