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亚洲新材料推出高均匀性CuCr球形粉,赋能高压开关性能升级
中国粉体网 2026/6/2 17:28:19 点击 1586 次
导读近期,亚洲新材料(北京)有限公司正式推出了采用真空气雾化技术制备的高均匀性CuCr25~CuCr50(铜铬)球形合金粉末。

中国粉体网讯  在高压真空开关设备的核心部件——触头材料的研发领域,一项关键技术突破正引发行业关注。近期,亚洲新材料(北京)有限公司正式推出了采用真空气雾化技术制备的高均匀性CuCr25~CuCr50(铜铬)球形合金粉末,旨在通过粉末冶金的新路径,重新定义高性能铜铬触头材料的制备方式,推动行业从传统铸造向先进制造的范式升级。


CuCr30粉末的形貌(左:15-53μm;右:53-150μm)

 

铜铬触头材料因其优异的开断能力、耐电弧烧蚀和低截流水平,被广泛应用于126kV及以下电压等级的真空断路器与真空接触器中。然而,长期以来,传统熔铸法和粉末冶金工艺始终难以攻克一个核心痛点:铬(Cr)相的均匀分布与晶粒细化。Cr相的粗大、成分偏析以及较高的氧氮含量,严重制约了材料的导电导热性能、使用寿命及整体质量稳定性,成为制备高质量CuCr25~50产品的技术瓶颈。

 

针对这一行业顽疾,亚洲新材料此次推出的产品直击要害。其核心优势在于采用了先进的高温高真空气雾化制粉技术。该技术能够在105~107 K/s的极快冷却速率下使合金熔体瞬间凝固,从而在微观层面实现了两大关键突破:一是合金组织的显著细化,二是成分的高度均匀化。

 

从公开的检测结果来看,这一技术优势得到了充分验证。制备出的粉末球形度好,流动性佳。更为重要的是,粉末内部Cr析出相被细化至5微米以内,且分布极为均匀,彻底摆脱了传统工艺中原料Cr粉颗粒度对最终产品组织的限制,从源头上解决了Cr相偏析、致密度低的长期难题。同时,第三方测试报告证实,粉末合金化完全,气体含量也得到了有效控制,为制备高性能终端产品奠定了坚实的原料基础。

 

此款高性能球形粉末的问世,为多种先进制造工艺提供了理想的原料选择,极大地拓展了铜铬材料的应用场景与性能上限。

 

3D打印领域:该粉末特别适用于激光/电子束粉末床熔融(SLM/EBM)技术。测试数据显示,无论是对于1064nm的红外激光还是532nm的绿光,CuCr30和CuCr50粉末的激光吸收率均远高于35%的稳定成型阈值,表明其具有优异的激光加工适应性,可直接用于打印结构复杂、性能要求高的触头及导电连接件。

 

在粉末冶金领域:采用该球形粉末进行热等静压(HIP)固相烧结,能够制备出近乎完全致密、低气体含量的铜铬合金材料。高球形度带来的优异填充性,结合HIP工艺的优势,有望获得电击穿特性更佳、可靠性更高的触头产品。

 

业内专家指出,CuCr25~CuCr50高均匀性球形粉末的推出,不仅是一次产品升级,更代表了材料制备理念的革新。它通过“高均匀性、细晶组织、低气体含量”这三大核心优势,精准应对了因Cr相偏析导致的开断性能下降、因致密度不足引发的产品寿命折损、以及因氧含量偏高带来的设备可靠性隐患等行业挑战。

 

参考来源:
亚洲新材官网、公众号

 

(中国粉体网编辑整理/留白)

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