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个人简介：
1983年1月出生，中共党员，机械专业，高级工程师。华海清科股份有限公司。
开发直线运动式抛光系统架构，将抛光系统的变形量由0.01mm级别降低到0.001mm级别，结构得到简化，稳定性大大提升。双清洗单元布局将机台生产效率由前一代产品的40余片/小时，提升到超过50片/小时，性能提高超过20%。MDS brush模块的重复定位精度达到0.01mm级别，扭矩均值偏移由4-5降低到小于1，稳定性达到国外机台先进水平。采用表面张力增强式离心干燥技术的干燥模块，体积和工艺时间均小于友商机台。各项技术成果已应用于5个机型、数十台设备，累计为客户完成晶圆加工超过100万片，创造经济价值数亿。先后获得40余项专利授权，其中发明专利18项，实用新型专利23项，专利覆盖整机布局，模块架构，新功能，工艺方法等方面。
荣获荣誉：
2020年天津市技术发明奖一等奖；2019年中国机械工业科学技术发明奖特等奖；天津市创新人才推进计划重点领域创新团队；津南区工人先锋号。
2025年9月23日，由中华全国总工会、中共重庆市委、重庆市人民政府共同主办的第三届大国工匠创新交流大会暨大国工匠论坛在重庆隆重召开。大会期间发布了首批200位大国工匠人才，华海清科股份有限公司技术中心资深总监许振杰被认定为2025年大国工匠人才。
深入钻研，引领国产芯片设备突破
多年来，许振杰一直专注于CMP（单芯片处理器）技术研究，完成国家级集成电路有关重大项目12项，打破了我国不能自主生产芯片制造设备的历史，取得里程碑式突破，填补了国内技术空白。他研发的universal-300Dual机型提升了生产效率和工艺灵活性，获得天津市技术发明一等奖、中国机械工业科技奖特等奖、第三届“IC创新奖”技术创新奖、中国创新设计大会好设计金奖等多项奖励。目前，许振杰授权发明专利32项，专利覆盖整机布局，模块架构，新功能，工艺方法等方面。
“心中一直憋着一口气，我们一直受国外技术打压，一定要攻破芯片生产技术‘卡脖子’难题，自主研发生产成功。”许振杰不服气地说。
出生于1983年的许振杰有着科研技术人员的朴实、坚毅和踏实。2009年他从中国矿业大学机械设计专业硕士研究生毕业，进入清华大学摩擦学国家重点实验室工作，从事CMP（单芯片处理器）设备的基础研发。
化学机械抛光是芯片制造领域五大关键技术之一，一段时期是中国芯片产业发展的瓶颈。许振杰紧盯目标，日夜查资料，做实验，不断总结分析，成功发明了全球首创直线运动式抛光系统架构，将抛光系统的变形量由0.01毫米级别降低到0.001毫米级别，结构得到简化，较国外同类产品架构具有更高抛光均匀性、一致性和时间稳定性。
2010年春天，一项技术攻关到了关键时期，许振杰每天7点到实验室，晚上11点离开。那段日子除了吃饭睡觉就是在工作，满脑子只有研发、设计、实验，那一个月他几乎和外界断绝了联系。“记得一个月我没有洗过一件衣服，衣服脏了换一件干净的。”许振杰还清晰地记得，5月3日团队将设计图纸交付给生产厂商时的兴奋场景。
带领团队，不断创新
2013年，为推动CMP技术研发成果落地产业化，许振杰随团队来到天津华海清科股份有限公司。他主要负责CMP产品的整机布局设计、抛光和清洗单元各模块的架构设计，以及关键技术和零部件的开发工作，为了让研究成果更好地落地变为成品，许振杰同时负责车间生产线组装工作。
工作中许振杰注重每一个环节的精准，力求让每一个设计成为精品，每一项工作成为标杆，他每天晚上8点前没有离开过公司。去零部件生产厂家住上几个月，伴着机器的轰鸣声日夜和一线工人调试生产，对许振杰来说已经是家常便饭。
华海清科股份有限公司董事长路新春说：“许振杰是全公司唯一一个对整机设备全器件都了解的人，公司没有第二个。每个螺丝用在哪，他一清二楚，因为每一台设备都经过许振杰的手。”一套设备有成千上万个大的零部件，大型设备所有零部件高达10万个，许振杰做到了熟记于心。
许振杰设计的universal-300Pus机台是首台进入工艺大生产线并顺利通过验收的国产12英寸CMP机台，完全替代了国外生产设备。目前已有500余台CMP装备应用于国内主要芯片生产厂商生产线，直接经济效益超100亿元，解决了我国在集成电路抛光领域“卡脖子”难题，全面实现抛光装备自主可控。
许振杰始终刻苦攻关，身体力行践行着一名新时代科研一线工作者的使命和担当。他用自己的行动诠释了“大国工匠”的内涵。在团队中，许振杰将自己在一线工作的研发经验毫无保留地传授给年轻人，耐心指导他们。他为公司培养出半导体领域高级工程师9人，他带领的团队先后荣获“天津市创新人才推进计划重点领域创新团队”“全国工人先锋号”等多项荣誉。
（中国粉体网编辑整理/山林）
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