中国粉体网讯  近日获悉，山东百特新材料有限公司拟改扩建，拟建硅基纳米材料产业园项目总投资2.5亿元，位于山东莒南经济开发区淮海路与大西环路交汇处西500m路北。

项目在现有厂区西侧新增占地，新建CMP研磨液生产设施，并依托现有辅助设施、配套设施及公用工程等，建成后产能为40000t/a高纯CMP研磨液，副产4764.22t/a氯化钠。新建CMP研磨液比现有工程CMP研磨液纯度更高、性能更高效，适用于更高端的芯片制造。主体生产车间（C1#车间）（1座，1层）位于车间的中部、北部，主要设置12台模数整合釜、14台板框过滤机、40台离子交换柱、28台粒子生长釜、32台超滤浓缩器、8台自动灌装机，用于CMP研磨液生产设施，年产40000tCMP研磨液。

CMP 研磨液主要是由研磨颗粒（Abrasive）、去离子水（DI water）以及一些化学添加剂组成。在研磨过程中研磨液会分布在wafer 表面与研磨垫之间，利用研磨液里的化学成分与wafer表面膜层进行化学反应将膜层转化为容易去除的成分，同时利用研磨液里研磨颗粒与wafer膜层之间的摩擦力和剪切力，再结合研磨头施加给wafer的压力，一起共同作用来实现对wafer 表面膜层的去除以及平坦化。

山东百特新材料有限公司成立于2009年，专注于生产高端硅溶胶、纳米分散液。公司生产大粒径硅溶胶、小粒径硅溶胶、阳离子硅溶胶、酸性硅溶胶、中性硅溶胶、高纯度硅溶胶、表面改性硅溶胶、彩喷纸硅溶胶、蓄电池硅溶胶、纳米抛光液等三十多种产品，应用于电子、抛光、催化剂、蓄电池、造纸、纺织、耐火材料、精密铸造、涂料等行业，年产能20000吨。

目前公司可在粒径范围3-160nm内实现精确控制（小粒径±1nm、大粒径±5nm），可在粒径大小、浓度、pH值、离子类型等方面为客户定制产品。公司拥有研发中心，致力于新产品研发，获得了多项专利。公司通过了ISO9001、ISO14001等认证，拥有高性能检验设备，确保产品品质。

参考来源：乐易齐鲁、百特新材料官网、CMP 牛马的那些事

（中国粉体网编辑整理/山林）

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