中国粉体网讯  近日，江丰电子发布公告称，公司拟通过定向增发募集资金不超过19.48亿元，用于年产5,100个集成电路设备用静电吸盘产业化项目、年产12,300个超大规模集成电路用超高纯金属溅射靶材产业化项目等项目。

进一步巩固在靶材市场的江湖地位

溅射靶材应用于溅射薄膜沉积工艺，溅射沉积是一种物理气相沉积（PVD）工艺，即在一定的真空环境下，利用荷能粒子轰击材料表面，使材料表面溅射出粒子并沉积在基底表面形成薄膜。溅射薄膜沉积工艺可重复性好、膜厚可控，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好等优点，可用于集成电路产业的高性能薄膜制备，对集成电路产业发展具有重要推动作用。

在溅射沉积工艺中，被轰击的目标材料称为溅射靶材，系集成电路生产制造环节中的重要先进材料。根据弗若斯特沙利文报告，预计至2027年，全球半导体溅射靶材市场规模将达251.10亿元，市场空间广阔。

美国、日本的半导体靶材生产厂商长期居于全球市场的主导地位。江丰电子凭借持续的技术深耕与创新突破，打破了国内超高纯金属溅射靶材基本依靠进口的局面，填补了国内同类产品的技术空白，并已逐渐成长为国内超高纯金属溅射靶材产业的领先者，具备与同行跨国公司竞争的实力。

本次江丰电子募资项目“年产12,300个超大规模集成电路用超高纯金属溅射靶材产业化项目”将建设公司在韩国的生产基地，由公司全资孙公司捷丰先进材料科技有限公司（KFAMCO.，LTD.）实施，该项目建设将加速公司全球化战略布局，实现对SK海力士、三星等重要客户覆盖，提升公司属地化服务能力，为公司的国际化发展战略奠定基础。

缓解我国高端静电吸盘供求失衡的局面

精密零部件作为半导体设备的关键构成要素及芯片生产制造过程中的重要消耗品，是半导体行业发展的关键支撑。

其中静电吸盘是一种适用于真空环境或等离子体环境的超洁净晶圆片承载体，其性能及品质会直接影响芯片制造的良率和效率。静电吸盘使用寿命通常不超过2年，属于消耗类零部件，市场需求大。当前，全球静电吸盘市场基本由美国、日本等少数企业占据。

在半导体精密零部件领域，江丰电子凭借研发及制造方面强劲的技术优势，现已具备4万多种零部件的量产能力，相关产品广泛应用于物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、蚀刻机、离子注入机等半导体设备中，公司亦已成为国内多家知名半导体设备公司和国际一流芯片制造企业的核心零部件供应商。

2025年1月，江丰电子与KSTEINC.（以下简称“KSTE”）签署了《关于静电吸盘项目之合作框架协议》，公司向KSTE引进静电吸盘生产技术及采购静电吸盘生产线。

此次募资项目“年产5,100个集成电路设备用静电吸盘产业化项目”目总投资额为109,790.00万元，拟使用募集资金99,790.00万元，旨在充分发挥公司半导体超高纯金属溅射靶材及精密零部件领域所积累的产研技术及客户优势，实现静电吸盘产品的量产和销售，以缓解我国高端静电吸盘供求失衡的局面，助力我国半导体产业链的自主可控性。

关于江丰电子

公司主要专注于超高纯金属溅射靶材、半导体精密零部件的研发、生产和销售。经过多年发展，公司已成功构建多个高水平的创新平台，包括“宁波市企业工程技术中心”、“国家示范院士专家工作站”、“省级高新技术企业研发中心”、“国家博士后科研工作站”以及“浙江省重点企业研究院”。凭借卓越的研发能力和创新成果，公司的研发中心荣获“国家级企业技术中心”的称号。

2024年，公司实现营业收入36.05亿元，同比增长38.57%；实现归属于上市公司股东的净利润4.01亿元，同比增长56.79%；实现归属于上市公司股东的扣除非经常性损益后的净利润3.04亿元，同比增长94.92%。

参考来源：江丰电子

（中国粉体网/山川）

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