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【原创】揭秘！为何CMP工艺离不开磨料粒度分析的极致掌控?——访儒亚科技(北京)有限公司总经理熊向军

空青

2024.7.25 | 点击 7207次

导读 儒亚科技(北京)有限公司总经理熊向军的专访。

中国粉体网讯 7月9日，由中国粉体网主办的“2024高端研磨抛光材料技术大会”在河南郑州成功召开。会议期间，我们邀请到多位专家学者、企业家代表做客“对话”栏目，围绕高端研磨抛光材料的技术与应用现状及发展方向进行了访谈交流。本期，我们分享的是儒亚科技(北京)有限公司总经理熊向军的专访。

中国粉体网：请熊总从主营产品、企业规模、研发实力等方面介绍一下儒亚科技。

熊总：首先非常感谢中国粉体网的邀请。我先介绍一下儒亚科技(北京)有限公司，我们公司坐落在北京市海淀区，是国家高新技术企业。我们的主营产品都是关于粉体颗粒的粒度分析产品，或者是粉体性能分析有关的产品，主要包括有CPS纳米粒度仪、EyeTech激光粒度粒形分析仪等粉体粒度分析仪器，还有一些与粒度分析样品制备相关的工具。另外，公司在工业在线分析领域也提供相应的粒度分析产品，比如像在润滑油和液压油等应用过程中的颗粒分析。此外，我们公司自己还拥有一个完善的粉体测试相关实验室，大概有二十余套的分析仪器和设备，我们在整个固定资产上也做了大量的投入。

中国粉体网：请问熊总，公司的产品主要服务于哪些行业？

熊总：我们的产品从大类上来讲，是分为实验室和在线两个产品线。服务的行业除了高校、科研单位和政府部门、事业单位之外，我们还服务于像石油化工、精细化工、食品制药、半导体和集成电路、光伏风电等新能源、新材料、机械加工、工业自动化、港口船舶、工程机械等等行业。

中国粉体网：请问熊总，为什么需要对磨料的粒度进行严格、准确的检测？

熊总：目前我了解到的磨料的应用有两个方向，半导体和光伏行业。磨料主要用于抛光，提到抛光就会涉及到抛光速率，也就是去除率。抛光液中磨料的颗粒尺寸对抛光表面的表面质量及抛光速率有着显著的影响，同时和它的形貌特性也有很有大的关系。而半导体行业中抛光液离不开磨料的发展，那么磨料的颗粒表征尤为重要。所以说在抛光领域中，都会对颗粒粒度进行控制。

中国粉体网：粒度检测的方法有哪些？背后的原理是什么？

熊总：粒度检测的方法其实有很多，传统的粒度检测方法像筛分法、图像分析法等等。我们公司的CPS纳米粒度仪是利用高速离心沉降法进行粒度检测，这种方法最大的优势就是还原真实粒度分布结果，而且具有极高的分辨率和最低0.01微克的超低样品分析能力；这款仪器可以区分测出仅仅相差1%的两个粒度峰。此外，我们的EyeTech激光粒度粒形分析仪采用的是激光光阻法和动态图像分析的激光视频双测量通道的分析方法，可以实现与材料物性无关的粒度分析，与市面上大多数粒度分析仪器有很大的不同，更适合分析组分不确定、不固定或者组分未知的样品，以及混合物样品。

中国粉体网：在CMP研磨抛光领域，儒亚科技能提供哪几款产品？它们的特色是什么？

熊总：其实就像刚刚我在介绍粒度分析方法里面有提到的，我们提供的主要是两大类，三个产品。第一个就是CPS纳米粒度仪，这款仪器的优点是：可测粒度范围很大，从5纳米到75微米，涵盖了纳米、亚微米到微米级别的磨料分析。第二个EyeTech激光粒度粒形分析仪，主要用于微米级别的粒度分析，这个仪器的的可测范围也很广，从0.1微米到3600微米，同时该仪器除了传统的激光通道之外，还带有一个视频分析的通道。也就是说使用激光通道进行粒度分析的同时还可以得到样品的图像，这样可以基于动态的图像分析，对颗粒的形貌参数进行统计分析。这也能满足目前市场对CMP工艺参数的要求。

第三就是PD-10干粉分散器，主要用于电镜或光学显微镜进行粉体的粒度分析时的样品制备。电镜或者显微镜粒度观察分析的一个痛点就是干粉样品的分散制样是非常麻烦的，为解决这个问题，我们公司开发了PD-10干粉分散器。这样可以非常方便的帮助我们用户进行干粉样品的制备，它最大的优点就是能够消除人为的操作误差。因为在很多实验室，不同人操作同一台仪器进行粒度分析会出现不同的结果，而通过使用这款设备，可以替代人为操作，解决分析制备中出现的人为操作误差的问题。

中国粉体网：好的，今天的采访就到这里，感谢熊总接受采访，谢谢。

（中国粉体网编辑整理/空青）

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