投资15亿！吉盛微武汉SiC项目正式启动

中国粉体网讯  12月8日上午，吉盛微（武汉）新材料科技有限公司（以下简称“吉盛微”）制造基地启用仪式在综保区加工贸易工业园隆重举行。这意味着武汉经开区突破性发展半导体产业迈出坚实一步，填补武汉碳化硅半导体材料生产领域的空白。

盛吉盛（宁波）半导体科技有限公司于2023年3月在武汉投资成立吉盛微（武汉）新材料科技有限公司，主要从事半导体及泛半导体设备用CVD SiC原材料及SiC部件、超高纯高精密陶瓷材料及部件、SiC Epi Wafer、CVD SiC设备的研发及生产制造，致力于推进半导体设备和关键零部件国产化。近年来，盛吉盛半导体致力于推动半导体设备和关键零部件国产化，已有多款设备和零部件交付国内龙头客户。

陶瓷是刻蚀机、涂胶显影机、光刻机、离子注入机等半导体关键设备中的关键部件材料，其成本已占半导体设备成本10%以上。其中，碳化硅陶瓷在半导体制造的前段到后段工艺装备中都有广泛应用，例如在研磨抛光吸盘、光刻吸盘、检测吸盘、精密运动平台、刻蚀环节的高纯碳化硅部件、封装检测环节中精密运动系统等等，地位极其重要。

盛吉盛半导体武汉碳化硅项目选址在经开区综保区，规划一期厂房2万平方米，二期规划30亩地，项目总投资约15亿元。目前，吉盛微已经完成了刻蚀、扩散、外延、快速热处理等多个工艺的零部件、耗材开发工作，部分产品填补了国内空白，初步具备稳定的生产供货能力。盛吉盛半导体副总经理、吉盛微总经理李士昌表示，吉盛微公司将围绕客户需求，持续提升产品性能，夯实开发制造能力，为半导体领域的供应链国产化作贡献。

吉盛微半导体于今年3月注册成立，由盛吉盛半导体子公司控股成立，属盛吉盛半导体“孙公司”，主营业务包括新材料技术研发，半导体器件专用设备制造等。

盛吉盛由国家集成电路基金（通过芯鑫融资租赁）、中芯控股、韩国Triplecores及芯空间共同出资打造，于2018年落户宁波鄞州，致力于半导体新设备的开发和销售。

来源：湖北日报、经开产投集团

（中国粉体网编辑整理/空青）

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